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以氧化铝为原料制备，SIC衬底晶圆加工，PH为碱性，适合单片及多片两种加工工艺
01.本产品适合多片抛光加工及单片加工这两种加工工艺:
0 2.含高锰酸钾碱性氧化硅抛光液;
03.建议配合树脂或者聚氨酯抛光垫配套使用:
04.如需要单片加工使用，建议添加对应助剂调整PH值。
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