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半导体级测温仪
半导体级测温仪

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BASF Exactus®

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BASF Exactus®

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EXACTUS®光学高温计主要设计用于OEM晶圆温度测量应用,在非接触式温度测量方面具有显著的性能优势。许多正在申请的**涵盖了这些突破,这些突破在准确性、可重复性和稳定性方面具有行业**的性能。我们的性能优势使我们能够成功地测量许多应用中的过程


EXACTUS®光学高温计主要设计用于OEM晶圆温度测量应用,在非接触式温度测量方面具有显著的性能优势。许多正在申请的**涵盖了这些突破,这些突破在准确性、可重复性和稳定性方面具有行业**的性能。我们的性能优势使我们能够成功地测量许多应用中的过程

EXACTUS®提供:

  • 使用短波长进行低温测量(25°C 或更高)

  • 使用 200nm 红外辐射测量低至 900°C 的单晶硅

  • 精度高,分辨率高达0.001°C,精度高达1.5°C

  • 速度高达每秒 1,000 个读数

  • 在任何给定波长下具有宽动态范围

  • 测温重复性 0.1 ºC , 温漂不高于 0.1 ºC 

  • 精密度高, 分辨率达 0.01 ºC , 测温精度1.5 ºC

    • 典型应用

      • 硅晶生长

      • 薄膜沉积

      • 激光/感应焊接

      • 玻璃加工

      工业加热
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