AJA从1991年成立以来已经研发了上百种不同类型的磁控溅射靶，其中包括许多定制化溅射靶。根据基片几何形状、腔室结构、靶材材料组成和薄膜规格的不同需求可选择不同型号溅射靶，如矩形，圆形，塔式和圆柱形独特的模块磁铁组合·独有的模块化磁铁组合，磁铁完全和冷却水隔离，因而不会造成磁铁的劣化，进而导致溅射靶源性能的衰减。此种设计可以方便用户接触内部磁铁组合，便于靶枪的维护和清洁:

工作于平衡磁控状态

**化靶材利用率

进行高或低溅射速率

工作于多种非平衡磁控态

进行均匀性或者有意为之的不均匀性沉积

到达基片表面的高或低电子能量

溅射较厚的磁性靶材

方便更换或拆卸磁性靶材