上海研倍新材料 专业生产纳米粉末 二氧化硅抛光液 SiO2 纳米材料

1、产品信息   

2、产品规格

1、样品测试包装客户指定（＜1kg/袋装）

2、样品产品包装（1kg/袋装）

3、常规产品包装（1kg/2kg/5kg/10kg）

备注：内：充惰性气体 外：铝箔袋真空。可根据客户要求指定包装。

3、产品概述

产品通过“选用净化原料+生产纯化工艺+品控智能控制”制备生成，产品具有技术含量高、晶相纯、磁性异物少、含水量低、化学性能稳定的特点。

4、产品用途

• 半导体工业:

• 化学机械抛光(CMP):这是二氧化硅抛光液*主要的应用。它用于抛光硅晶圆、多层膜、金属层等，以达到所需的平面度、粗糙度和表面质量。不同的CMP应用需要不同粒径和配方的二氧化硅抛光液，以实现**的抛光效果。例如，用于平坦化硅晶圆的抛光液粒径通常较粗，而用于抛光金属互连层的抛光液粒径则较细。

• 光学元件抛光:

• 透镜、棱镜、光纤等:二氧化硅抛光液可用于抛光各种光学元件，以获得高精度表面，减少光学元件表面的缺陷，提高光学性能。此应用中对表面质量要求极高，因此需要使用粒径非常细的二氧化硅抛光液。

• 磁头抛光:

• 硬盘驱动器磁头:二氧化硅抛光液用于抛光硬盘驱动器的磁头，以获得高精度和低粗糙度的表面，保证数据读取的可靠性。

• 精密机械加工:

• 各种精密零件:用于抛光各种精密零件，以获得高精度和高质量的表面光洁度。

• 其他应用:

• 液晶显示屏 (LCD) 抛光:用于抛光LCD玻璃基板。

• 手表表镜抛光:用于抛光高精度手表表镜。