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掩模版

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江苏太平洋石英股份有限公司

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所谓光掩膜是微电子制造领域中光刻工艺所使用的图形母版,是由不透光的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形(Mask Pattern),并通过曝光将图形转印到产品基板之上。

掩模版的主要应用于以下领域:

IC(Integrated Circuit,集成电路)

尤其是LSI(Large Scale IC,大规模集成电路)包括Wafer制程及IC Bumping等

FPD(Flat Panel Display,平板显示器)包括PDP、LCD、LED、OLED等

PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)

MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)



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