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YZ-1550EBI光学镀膜设备品牌
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YZ-1550EBI光学镀膜设备
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晶控:MXC-3B +六探头
空载极限真空:8.0x10-5Pa
加热温度:**300%C
电源:三相 380V50HZ
蒸发源:双枪+固走阻基
空载恢复真空:2x103pa s15min
选件:RF离子源 /霍尔源
设备重量:约7T
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