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RDB-BC-TiW品牌
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TiW 钛钨靶材研倍耐磨衬片
研倍RDB-BC-TiW
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上海研倍新材料 专业生产定制 各类靶材 合金靶材
1、产品信息
货号 | 厚度 | 纯度(%) | 形貌 | 颜色 |
RDB-BC-TiW | 可定制 | 99.9 | 靶材 | 金属光泽 |
2、产品规格
定制
3、产品概述
TiW(钛钨)靶材是一种用于物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)等薄膜沉积技术的材料。它通常用于制备具有特殊功能的薄膜材料,例如用于光学涂层、电子器件和传感器等领域。
TiW(钛钨)靶材具有优异的物理和化学性能,包括高熔点、良好的导热性和化学稳定性。这使得它在高温环境下能够提供稳定的性能,并且在薄膜沉积过程中能够保持较高的沉积速率和均匀性。。
4、产品用途
微电子学:TiW靶材可用于制备微电子器件中的金属化层,如金属线路、接触电极和互连层等。
光学涂层:TiW靶材可用于制备具有特殊光学性能的薄膜材料,如反射镜、透镜和光学滤波器等。
表面涂层:TiW靶材可用于制备具有特殊表面性能的涂层,如耐磨涂层、防腐蚀涂层和陶瓷涂层等。
金属材料增强:TiW靶材可用于金属材料的增强,提高其硬度、耐磨性和耐腐蚀性。
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