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高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD300品牌
沈阳科学仪器产地
辽宁样本
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高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD300
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占地面积（长x宽x高）:
约1.8米x0.97米x1.9米
电控描述:
全自动
工艺:
片内膜厚均匀性：≤±5%
产品概述：
系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
设备用途：
用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研。
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