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市场需求：
针对于半导体化学品和超纯水（UPW）金属污染的实时监控，对于提供改进制造工艺和提高产品产量所需的信息至关重要。在交付（通过罐车或桶）、中央化学品供应等过程中，需要进行 24/7 全天候金属杂质检测，以监控金属污染的实时状态。
优势：
我们公司先进的在线实时痕量金属监测系统，可检测半导体工艺化学品，超纯水，为客户提供**的半导体工艺化学品和超纯水的监控方案。
1. 全自动系统，自动取样、稀释、传递、检测、清洗、校准，实现24/7 全天候监控；
2. 软件系统与工厂MES实时通信，反馈数据，减少意外污染造成的产品损失；
3. 集成ICP-MS，全封闭设计，样品经管路直接进入ICP-MS，降低污染的可能性；
4. 金属元素检测范围广，检测精度高，检测极限~1ppt；
5. 设备内部酸、碱或其他区域隔离，均有各自的排水管装置，防止交叉污染;
6. 泄漏联锁传感器检测到任何泄漏时自动关闭所有化工阀门，安全可靠；
7. 由分析单元（CAU）和采样单元（SSU）组成，*多支持4个SSU（20个取样点），*远支持200米的输送距离；
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