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SEM5000X品牌
国仪量子产地
合肥样本
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SEM5000X是一款超高分辨率场发射扫描电子显微镜,其分辨率达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV。高分辨物镜设计、高压隧道技术(SuperTunnel)以及镜筒工艺升级,实现了低电压分辨率的进一步提升。全新设计的样品仓,扩展接口增加至16个,快速换样仓**支持8寸晶圆(**直径208 mm),极大扩展应用范围。高级扫描模式和自动功能增强,带来了更强的性能和更好的体验。
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摘要:硬脂酸镁是制药界广泛应用的药物辅料,因为具有良好的抗粘性、增流性和润滑性在制剂生产中具有十分重要的作用,作为常用的药用辅料润滑剂,比表面积对硬脂酸镁有很大的影响,硬脂酸镁的比表面积越大,其极性越
2022-07-05
陶瓷材料具有高熔点、高硬度、高耐磨性、耐氧化等一系列特点,被广泛应用于电子工业、汽车工业、纺织、化工、航空航天等国民经济的各个领域。陶瓷材料的物理性能很大程度上取决于其微观结构,是扫描电镜重要的应用领
2022-09-27
6月11日,“镜遇杭电,量启关怀”——国仪电镜售后服务团队精心打造的【镜心镜意】用户关怀周活动在杭州电子科技大学成功举办。本次活动聚焦双束电镜技术,通过密集的理论与实操训练,为该校师生开启了一扇深度探
6月10日,由中国科学技术大学微纳研究与制造中心、国仪量子技术(合肥)股份有限公司、牛津仪器科技(上海)有限公司联合举办的“中国科学技术大学材料微观分析论坛暨微纳加工装备联合实验室揭牌仪式”在中国科学
近日,国际顶尖学术期刊《科学》(Science)发表了同济大学罗巍教授与华中科技大学黄云辉教授等合作者的题为“Fatigue of Li metal anode in solid-state batt
国仪量子电镜在芯片金属栅极刻蚀残留检测的应用报告一、背景介绍 在芯片制造工艺中,金属栅极刻蚀是构建晶体管关键结构的重要环节。精确的刻蚀工艺能够确保金属栅极的尺寸精度和形状完整性,对芯片的性能
国仪量子电镜在芯片后道 Al 互连电迁移空洞检测的应用报告一、背景介绍 随着芯片集成度不断攀升,芯片后道 Al 互连技术成为确保信号传输与芯片功能实现的关键环节。在芯片工作时,Al 互连导线
国仪量子电镜在芯片钝化层开裂失效分析的应用报告一、背景介绍在半导体芯片制造领域,芯片钝化层扮演着至关重要的角色。它作为芯片的 “防护铠甲”,覆盖在芯片表面,隔绝外界环境中的湿气、杂质以及机械应力等不利