TERA Fab E系列是首台商业化光束笔光刻(BPL)纳米加工系统， 仪器使用多达两万支可独立编程笔阵列， 每支笔尖都有相同尺寸小孔光阑来进行无掩膜光刻; 自定义软件允许研究人员在0.5x0.4平方厘米区域内快速精确拼接不同图形， 且特征尺寸分辨率优于200纳米; 这个工具可以快速地制作电子和光学器件， 制造光刻掩模， 以及光化学研究， 桌面式操作上手容易， 无需无尘室; 更多应用及产品细节信息TERA中国区官方授权商：溢鑫科创。

典型的应用包括：

*研究单个细胞

*使用DNA、蛋白质、肽或碳水化合物阵列

*微流控或微纳电子功能器件的制备

*图案化水凝胶

*高定域光化学

*合成和发现用于催化、光子学或治疗学应用的新纳米材料

*其他高密集高分辨的微纳米器件制造