参考价格
面议型号
VM300SD品牌
世诺产地
四川省绵阳市样本
暂无全容积（m³）：
L700×W614×H500mm能耗：
1.1KW处理量：
300g物料类型：
其它工作原理：
立式世诺科技混合机
世诺科技VM300SD
国产混合机
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概述：
设备名称： 行星式重力搅拌机 机型： **真空型
型号： VM300SD/ VM300SDO 规格： 300g×1
品牌： SINOMIX® 产地： 四川·绵阳
用途： 适应于多组份材料（硅胶、多组分环氧树脂 etc.）的分散、混合、脱泡。
工作原理： 结合了自转和公转运动产生近 400G 的离心重力，即使比重相差很大的材料也能获得 很好的混合效果，利用动态抽真空，完全去除材料中气泡。
·公转功效——在公转时，物料在料杯内受到离心力的作用，沿矢量方向产生的比重分离运 动与材料自重所产生的向上推动作用将气泡分离出来。
·自转功效——公转放入材料容器的同时使其自转，从而使材料本身产生强大的旋涡流动性， 形成离心矢量合成力的作用，物料与壁面的剪切力以及物料内部分子相互间 的产生相互分散效果。
暂无数据！
石墨烯应用领域：石墨烯具有优异的光学、电学、力学特性，在材料学、微纳加工、能源、生物医学和药物传递等方面具有重要的应用前景，被认为是一种未来革命性的材料。我司设备性能：高效除去气泡，分散混合搅拌问题。
2022-03-02
【中国粉体网讯】 随着新能源电池、石墨烯导热膜、半导体封装及精细化工等粉体下游行业对材料纯度和工艺一致性的要求日益严苛，高固含、高粘度浆料中的微米级气泡问题已成为制约产品良率提升的关键瓶颈。
在多层陶瓷电容器（MLCC）的制造中，介质层是决定其电容量和耐压性能的核心部分。介质层所用浆料主要由纳米级钛酸钡粉体和有机载体组成。为了获得更高的容量，介质层越来越薄，钛酸钡粉体的粒径也越来越细，这给
在CMP抛光液中，氧化剂（如过氧化氢H₂O₂）是重要的功能性组分，负责在抛光过程中氧化晶圆表面材料，促进材料去除。然而，H₂O₂对温度和真空条件敏感，脱泡工艺需要在去除气泡的同时，控制H₂O₂的分解速
CMP抛光液是一种典型的纳米磨料分散体系，其脱泡工艺的复杂性，不仅在于气泡本身，更在于磨料分散状态与气泡生成、排出之间的耦合关系。绵阳世诺科技有限公司深耕脱泡搅拌机领域18年，拥有52项国家专利，本文
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