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纳米二氧化硅抛光液
产品详情
抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光
抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石玉器等的抛光加工。
应用范围：纳米氧化硅分散液具有粒径小，溶度高，分散好等特点，用在抛光液中，以化学作用为主，添加螯合剂，活性剂，可以解决表面粗糙度，波纹度，表面缺陷等传统问题，可以做光学镜面抛光，宝石镜面抛光等精密抛光。
抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石玉器等的抛光加工。
制备纳米二氧化硅有哪几种方法目前国内外制备纳米二氧化硅的方法主要有物理法和化学法两种。物理法一般采用高能球磨机或超声波气流磨机，将SiO2聚集体分多级粉碎，得到最终产品。产品粒径一般为1-5μm。采用
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