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机械剥离氧化硅/硅基底二硫化钨
机械剥离氧化硅/硅基底二硫化钨

参考价格

面议

型号

101044

品牌

先丰纳米

产地

江苏

样本

暂无
江苏先丰纳米材料科技有限公司

金牌会员

|

第11年

|

生产商

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核心参数
  • 制作方法:

    .
  • 质量标准:

    .
  • 纯度:

    .
  • 目数:

    10 mmx10 mm
  • 品级:

    一级
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货号CAS号编号包装参数
1010447440-33-7XFG171 盒基底尺寸: 10 mmx10 mm

产品名称

中文名称: 机械剥离氧化硅/硅基底二硫化钨

英文名称:Mechanical exfoliation WS2 on SiO2/Si

 

性质

形态:薄膜

参数

基底:二氧化硅/硅

氧化层:300nm

基底尺寸:10 mmx10 mm

WS2面积:>10 μm2

 

应用

先丰纳米**推出机械剥离制备的二硫化钨,该类材料具有缺陷少,优异的光学性质,可以研究层数和荧光效应,此外,由于保持了原有晶格结构,所以该类材料是制备器件的理想材料。



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产品质量

10分

售后服务

10分

易用性

10分

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10分
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