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硫酸钡研磨分散机
硫酸钡研磨分散机

参考价格

10-20万元

型号

CMD2000/4

品牌

IKN

产地

德国

样本

暂无
上海依肯机械设备有限公司

金牌会员

|

第14年

|

生产商

工商已核实

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核心参数
  • 能耗:

    4KW
  • 处理量:

    0-300L/H
  • 物料类型:

    粉状
  • 工作原理:

    立式
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   硫酸钡研磨分散机,硫酸钡胶体磨,硫酸钡研磨机,硫酸钡溶液研磨分散机,研磨分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备,效果远远好于单台胶体磨处理的效果,研磨分散机是一台目前**型的研磨分散设备

   硫酸钡,适用于上、下消化道造影。无臭、无味粉末,密度4.25-4.5,分解温度>1600℃。溶于热浓硫酸,几乎不溶于水、稀酸、醇。水悬浮溶液对石蕊试纸呈中性。

            

技术及价格请来电:贾小姐13795214885   QQ2294898886,公司有样机可供客户购前实验,欢迎广大客户来我司参观指导!


CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力,可以处理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。


   硫酸钡研磨分散机的特点:

①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
 
  硫酸钡研磨分散机,硫酸钡胶体磨,硫酸钡研磨机,上海依肯研磨分散机是处理药物混悬液的**设备!


从设备角度来分析,影响研磨分散机效果因素有以下几点:

1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)

2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)

5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)

 

线速度的计算:

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素,超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

 

CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%


创新点

目前许多厂家采用国产胶体磨生产,由于国产胶体磨本身转速较低为2930转,生产出来的硫酸钡溶液粒径一般在20μm左右,而且生产效果很低,需要研磨5-6小时。而使用IKN研磨分散机进行处理,研磨两遍,粒径可以细化到5μm,效果好,效率高。

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产品质量

10分

售后服务

10分

易用性

10分

性价比

10分
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