首页 > 研磨材料 > 氧化锆球 >
海外进口TORAY东丽氧化锆球AGB-K-0.4-C01-041
海外进口TORAY东丽氧化锆球AGB-K-0.4-C01-041

参考价格

30-40万元

型号

AGB-K-0.4-C01-041

品牌

产地

日本

样本

暂无
玉崎科学仪器(深圳)有限公司

金牌会员

|

第1年

|

代理商

工商已核实

留言询价
400-810-0069转5388
使用微信扫码拨号
中国粉体网认证电话,请放心拨打
核心参数
  • 莫氏硬度:

    1250
  • 粒度/直径(μm):

    5000μm
  • 密度:

    6.06
  • 含量:

    99.9%
  • 材质:

    氧化锆
  • 形状:

    球
标签:

tamasakisci氧化锆球

tamasakisciAGB-K-0.4-C01-041

国产氧化锆球

同类推荐

看了海外进口TORAY东丽氧化锆球AGB-K-0.4-C01-041的用户又看了

产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家
留言询价
×

*留言类型

*留言内容

*联系人

*单位名称

*电子邮箱

*手机号

提交
点击提交代表您同意 《用户服务协议》及《隐私协议》

咨询海外进口TORAY东丽氧化锆球AGB-K-0.4-C01-041

使用微信扫码拨号

中国粉体网认证电话,请放心拨打
×
是否已沟通完成
您还可以选择留下联系电话,等待商家与您联系

需求描述

单位名称

联系人

联系电话

Email

已与商家取得联系
同意发送给商家
产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家

φ0.4mm(400μm)在研磨介质谱系中处于亚毫米级的“精磨衔接位”。它的单球质量已不足以承担对大颗粒的实质性粗碎,但球数密度尚未达到纳米分散末端所需的极端密集程度。它的工程价值在于:在亚微米至数百纳米的区间内,以高密度带来的适中冲击动能完成残余团聚体的“*后一程解构”,同时以钇稳定四方晶氧化锆的相变增韧和HIP处理,确保微球在长时间循环应力下不以碎裂的方式交出自己。


φ0.4mm规格核心参数

AGB-K-0.4-C01-041属于东丽TORAYCERAM™ AGB-K通用型研磨球系列,型号中“0.4”为公称直径0.4mm(400μm),“C01”为生产工艺或批次控制代码,“041”为特定规格后缀。以下参数综合自产品技术资料:


参数项目 φ0.4mm 规格典型值

材质体系 钇稳定四方晶氧化锆(Y-TZP)

化学组成 ZrO₂(含HfO₂)94.75 ± 0.60 wt%;Y₂O₃ 4.90 ± 0.50 wt%;Al₂O₃ 0.30 ± 0.10 wt%

杂质控制 Fe₂O₃、SiO₂、TiO₂ 均 ≤ 0.01 wt%

真密度 6.06 g/cm³

堆积密度 3.70 g/cm³

维氏硬度 1,300 HV

断裂韧性 6.0 MPa·√m

弹性模量 210 GPa

磨耗率 / 杂质溶出 <0.01 ppm

圆度 ≤0.5 μm

尺寸公差 ±0.10 mm

粒径分布 窄分布,无异形珠

参数来源:产品技术资料。0.4mm规格的直径公差明确为±0.10mm,圆度≤0.5μm,在亚毫米级微珠中属于受控精度较高的水平。


原理一:相变增韧——400μm微球在循环应力下的存活根基

0.4mm球体在砂磨机中承受的是高频、低幅的反复挤压与剪切,而非大质量冲击。在这种工况下,微球失效的主要形式是微裂纹在循环应力下的缓慢扩展与表面剥落。一颗400μm的球体一旦碎裂,其碎片虽比更小粒径的微珠更易分离,但仍足以在亚微米浆料中留下异种颗粒污染,并打乱已经收束的粒径分布。


Y-TZP的核心机制是相变增韧。东丽通过添加约4.9 wt%的Y₂O₃作为稳定剂,将本应在高温下存在的四方相(t) “冻结”至室温,使其处于亚稳态。当裂纹尖端受到应力时,四方相向单斜相(m) 发生马氏体相变,伴随约3%–5%的体积膨胀,在裂纹尖端产生压应力场,从而吸收断裂能、阻碍裂纹扩展。


这一机制的直接结果是断裂韧性达到6.0 MPa·√m,约为高纯氧化铝球的两倍。对于0.4mm球体,相变增韧的工程意义不在于抵抗“重击”,而在于在数十万至数百万次循环微应力中维持结构完整,使球体以极其缓慢的表面磨损方式服役,而不是以碎片的形式退出研磨腔。


原理二:HIP处理与精密成型——让增韧机制在每一颗微珠上可靠兑现

相变增韧提供了材料层面的韧性基础,但400μm球体的实际寿命还取决于制造过程中能否消除内部缺陷。一颗含有微孔或内部微裂纹的微珠,在循环应力下会成为裂纹起源,相变增韧来不及发挥作用就可能已经失效。


AGB-K系列的制造流程中包含HIP处理(热等静压) :在高温高压环境下,珠体内部的微孔、裂纹等缺陷被压合消除,材料致密度和可靠性随之提升。对于0.4mm这个尺度,内部缺陷的**尺寸容限极低,HIP处理不是“锦上添花”,而是使相变增韧能够在极小体积内稳定工作的必要工艺条件。


成型环节的精度同样关键。圆度≤0.5 μm、±0.10 mm的尺寸公差以及窄粒径分布,使球群在研磨腔内的运动行为高度一致。异形珠或粒径偏差过大的微珠会在流场中产生不规则的碰撞轨迹,导致局部过磨或研磨死区,在亚微米浆料中留下可见的粒径分布拖尾。


原理三:0.4mm的研磨力学——亚微米精磨的“过渡与衔接”

0.4mm在研磨介质谱系中处于亚毫米精磨区间。它的力学行为既不同于毫米级以上介质的“冲击破碎主导”,也不同于0.05–0.1mm级微珠的“纯剪切解聚”,而是呈现出一种承上启下的衔接特征。


单球质量方面,400μm微球携带的动能已不足以对毫米级大颗粒产生有效的粗碎作用,但它仍能在亚微米尺度上对残余硬团聚体施加足够的局部应力,完成“*后一程解构”。球数密度方面,0.4mm的单位体积球数已经足够高,能够在砂磨机转子驱动下形成密集的剪切与挤压网络,将已经接近一次颗粒尺度的物料维持分散状态。行业经验表明,0.4mm粒径适用于追求纳米级分散及极高均匀度的场合,对于初始粒径较大的物料,则需搭配更大粒径介质先行完成初级破碎。


因此,0.4mm规格的工序定位可以概括为:承接前段破碎的产物,在亚微米至数百纳米区间内完成精磨与分散的衔接。它不是粒度减小的“开路者”,而是粒径分布的“收束者”。


原理四:6.06 g/cm³高密度与窄分布,是剪切网络有效性的两个支撑

在0.4mm尺度上,球数密度对效率的贡献已经显著上升,但仅有球数并不自动产生有效的剪切网络——密度和粒径一致性的配合同样关键。


6.06 g/cm³的真密度在陶瓷介质中处于**档位。在相同转速下,更高的密度意味着每颗微球携带更大的动能,这对于中高粘度的亚微米浆料尤为重要:低密度介质可能在粘性阻力下动能衰减过快,而氧化锆的高密度使微珠在浆料中维持足够的剪切作用强度。


窄粒径分布和极低的异形珠混入比例则保证球群运动行为的一致性。东丽资料将异形珠的低掺杂比例列为核心产品特性,认为其显著提高了研磨和分散效率。对于0.4mm尺度,粒径分布的一致性直接关系到成品浆料的粒径分布是否出现拖尾——在亚微米精磨中,分布的“干净”程度有时比D50的**值更具工程意义。


原理五:化学惰性与亚ppm级溶出,是敏感浆料场景的底线

0.4mm规格的典型应用场景——锂电池正极/负极浆料、MLCC介电浆料、电子陶瓷粉体、医药与精细化工分散体系——对介质污染的容忍度以ppm甚至亚ppm计。亚微米分散带来的比表面积增大,使浆料对外来离子的“捕获放大效应”同步增强。


AGB-K-0.4-C01-041的化学设计围绕这一约束展开。Fe₂O₃、SiO₂、TiO₂均≤0.01 wt% 的杂质控制,配合Y-TZP基体的化学惰性,使球体在多种浆料体系中接近不参与反应。磨耗率<0.01 ppm 指向的工程事实是:在长期连续研磨中,介质向浆料释放的异种离子量被压制在检测限附近。东丽资料同时指出,材料本身对pH 2–14的酸碱环境和800°C高温具有耐受性,进一步扩展了其在复杂化学体系中的适用边界。


在0.4mm这个尺度上,“磨得匀”与“磨得干净”是同一件事的两面:如果介质在精磨过程中持续释放杂质,亚微米分散带来的性能增益会被污染扰动所抵消。


φ0.4mm的适用边界

适用场景:目标粒径进入亚微米至数百纳米区间的精磨与分散工序;物料已完成初步破碎,需要进一步收束粒径分布、打开残余硬团聚;设备为砂磨机(卧式或棒销式),分离系统与0.4mm微珠匹配;浆料体系对Fe、Si及金属离子溶出的容忍度极低,典型如锂电池电极浆料、MLCC介电浆料、电子陶瓷粉体、医药精细分散。


不适用场景:粗磨或大颗粒预破碎——0.4mm球体不具备破碎毫米级物料所需的冲击质量;纳米分散的极限收束——若目标进入亚50nm区间,需要更小粒径和更高球数密度的介质;分离系统不匹配的设备——微珠泄漏或堵塞的风险远高于研磨效率的收益。


选型逻辑:AGB-K-0.4-C01-041的核心价值在于在亚微米精磨区间以可忽略的污染代价完成粒径分布的衔接与收束。相变增韧与HIP处理为400μm球体提供了在循环微应力下存活的韧性基础,高密度与窄分布保障了剪切网络的有效性,而0.4mm的粒径则将研磨行为定位在“残余团聚解构”与“密集剪切分散”的衔接地带。它面向的是精磨工序中承上启下的执行层,而非粗碎或纳米分散的端点。


总结:AGB-K-0.4-C01-041的原理可以概括为——用Y-TZP相变增韧让400μm微球在反复循环应力下不碎裂,用HIP处理让这一机制在每一颗微珠上可靠兑现,用6.06 g/cm³的高密度和窄粒径分布构建一致的剪切网络,*终在亚微米至数百纳米浆料中以亚ppm级的介质溶出完成精磨工序的衔接与粒径收束


创新点

φ0.4mm(400μm)在研磨介质谱系中处于亚毫米级的“精磨衔接位”。它的单球质量已不足以承担对大颗粒的实质性粗碎,但球数密度尚未达到纳米分散末端所需的极端密集程度

相关方案
暂无相关方案。
相关资料
暂无数据。
公司动态
百年NIKKATO的梯度化棋局:HD-5.0如何成为通用耐磨领域的“效率锚点”

在全球制造业向高精度、高纯度、高效率与绿色低碳方向加速转型的今天,研磨介质——这个看似基础的材料环节——正成为决定产业升级成败的关键变量。据市场研究机构数据显示,2024年全球氧化铝陶瓷球市场估值已达

日陶高纯氧化锆球深耕半导体市场,以精密研磨技术助力芯片制造升级

在全球半导体产业持续向更高集成度、更小线宽演进的背景下,精密研磨与抛光技术对芯片制造良率和性能的影响日益凸显。作为高性能陶瓷研磨介质的百年企业,日本日陶(NIKKATO)的高纯度氧化锆球凭借其卓越的材

日陶高纯度氧化铝球:以极致纯净赋能半导体精密制造

在半导体制造业向更小制程、更高集成度迈进的进程中,材料纯度的控制已从“重要因素”升级为“决定生死的关键指标”。研磨介质作为半导体材料制备中不可或缺的工艺耗材,其纯度水平直接关系到芯片性能与良率。日本日

技术文章
高纯氧化铝的应用版图:从锂电池安全屏障到半导体精密抛光的材料逻辑

氧化铝是地球上最常见的陶瓷材料之一,但“常见”与“可用”之间,隔着一条纯度构成的鸿沟。冶金级氧化铝的纯度约为99.5%,而高纯氧化铝(HPA)的纯度门槛设在99.99%(4N)以上,5N(99.999

从“搅拌棒逻辑”到“离心场逻辑”:SK-300SⅡ如何重塑实验室混合范式

实验室里最不起眼的动作,或许是“搅一搅”。但恰恰是这个动作,长期困在一种隐性的路径依赖中:用一根桨叶伸进容器,以机械力驱动流体运动。从磁力搅拌子到顶置式搅拌桨,从锚式到涡轮式,本质上都是在同一逻辑框架

住友化学AKP-15高纯氧化铝粉:精密级α-Al₂O₃的技术解码与应用突破

引言:被“0.60μm”定义的材料精度在半导体、光电与先进陶瓷产业向更高精度、更高可靠性迈进的今天,原材料的选择已从“纯度优先”演变为“纯度与粒径协同精准控制”的双轨逻辑。日本住友化学(Sumitom

用户评论
发评论
暂无评论!
问商家
  • 海外进口TORAY东丽氧化锆球AGB-K-0.4-C01-041的工作原理介绍?
  • 海外进口TORAY东丽氧化锆球AGB-K-0.4-C01-041的使用方法?
  • 海外进口TORAY东丽氧化锆球AGB-K-0.4-C01-041多少钱一台?
  • 海外进口TORAY东丽氧化锆球AGB-K-0.4-C01-041的说明书有吗?
  • 海外进口TORAY东丽氧化锆球AGB-K-0.4-C01-041的报价含票含运费吗?
  • 海外进口TORAY东丽氧化锆球AGB-K-0.4-C01-041有现货吗?
  • 0有办事机构吗?
  • 0销售电话是多少?
海外进口TORAY东丽氧化锆球AGB-K-0.4-C01-041信息由玉崎科学仪器(深圳)有限公司为您提供,如您想了解更多关于海外进口TORAY东丽氧化锆球AGB-K-0.4-C01-041报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
  • 推荐分类
  • 同类产品
  • 该厂商产品
  • 相关厂商
  • 推荐品牌
同品牌产品
耐磨氧化铝陶瓷
关注度 2103
氧化铝球
关注度 1487
壶磨机
关注度 1857
免费
咨询
手机站
二维码
分
享