参考价格
50-60万元型号
AGB-K-0.2-C01-041品牌
产地
日本样本
暂无粒度/直径(μm):
5000μm密度:
6.06含量:
99.9%材质:
氧化锆形状:
球莫氏硬度:
1250tamasakisci氧化锆球
tamasakisciAGB-K-0.2-C01-041
国产氧化锆球
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φ0.2mm(200μm)在研磨介质谱系中处于一个关键的转折位置。它既保留了一部分足以“打开”亚微米级团聚体的动能,又开始显现出以高球数密度和密集剪切网络为主导的分散特征。支撑这套介于“破碎”与“分散”之间机制的核心,是钇稳定四方晶氧化锆(Y-TZP)的相变增韧,以及HIP处理对内部缺陷的消除,使微球在高频循环应力下以极低的速率磨损,而非碎裂污染浆料。
φ0.2mm规格核心参数
AGB-K-0.2-C01-041属于东丽TORAYCERAM™ AGB-K系列,型号中“0.2”为公称直径0.2mm(200μm),“C01”为生产工艺/批次控制代码,“041”为后续规格或批次标识。该规格位于AGB-K通用系列与超细定制系列的交界地带,专为砂磨机超细、纳米级湿法研磨与分散工艺开发。
参数项目 φ0.2mm 规格典型值
材质体系 钇稳定四方晶氧化锆(Y-TZP)
化学组成 ZrO₂(含HfO₂)94.75 ± 0.60 wt%;Y₂O₃ 4.90 ± 0.50 wt%;Al₂O₃ 0.30 ± 0.10 wt%
杂质控制 Fe₂O₃、SiO₂、TiO₂ 均 ≤ 0.01 wt%
真密度 6.06 g/cm³
堆积密度 3.70 g/cm³
维氏硬度 1,250–1,300 HV10
断裂韧性 6.0 MPa·√m
弹性模量 210 GPa
磨耗率 / 杂质溶出 <0.01 ppm
圆度 ≤0.5 μm
尺寸公差 ±0.05 mm
平均压溃强度 ≥3 kgf(0.2mm规格)
外观 白色球形,低气孔致密烧结体
东丽官方将0.20mm规格的外部公差明确为±0.05mm,平均粉碎重量(压溃强度)≥3kgf,在亚毫米级微珠中属于受控精度较高的水平。
原理一:相变增韧——0.2mm微球在循环应力下的存活根基
0.2mm球体在砂磨机中承受的并非大质量冲击,而是高频、低幅的反复挤压与剪切。在这种工况下,微球失效的主要形式是微裂纹在循环应力下的缓慢扩展与表面剥落。一颗200μm的球体一旦碎裂,其碎片极难从纳米级浆料中分离,会直接成为产品中的异种颗粒污染。
Y-TZP的核心机制是相变增韧。东丽通过添加约4.9%的Y₂O₃作为稳定剂并精确控制烧结工艺,将本应在高温下存在的四方相(t) 冻结至室温,使其处于亚稳态。当裂纹尖端受到应力时,四方相向单斜相(m) 发生马氏体相变,伴随约3%–5%的体积膨胀,在裂纹尖端产生压应力场,从而吸收断裂能、阻碍裂纹扩展。
这一机制的直接结果是断裂韧性达到6.0 MPa·√m,超过氧化铝球的两倍。对于0.2mm级别的微球,韧性比硬度更具工程意义:高韧性从源头上降低了碎裂风险,使球体以缓慢的表面磨损方式服役,而不是以碎片的形式进入浆料。
制造环节的HIP处理(热等静压) 是相变增韧可靠兑现的前提。HIP在高温高压下消除球体内部的微孔和裂纹等缺陷,提升材料致密度与可靠性。对于200μm的球体,内部缺陷的容限极低,HIP使增韧机制能够在每一颗微珠上稳定工作,而不是被制造缺陷提前“短路”。
原理二:0.2mm的研磨力学——破碎与分散之间的过渡地带
0.2mm在研磨介质谱系中处于超微粒径的入口。它的力学行为与更小粒径(0.03–0.05mm)的“纯剪切解聚”不同,也与毫米级介质的“冲击破碎主导”不同,而是呈现出一种过渡特征。
一方面,200μm微球携带的动能仍然足以对亚微米级团聚体产生有效的冲击破碎,能够“打开”那些在更小剪切场中难以解聚的硬团聚。另一方面,单位体积内的球数密度已经足够高,在砂磨机转子驱动下形成密集的高频剪切与挤压网络,珠体之间、珠体与物料之间产生强烈的撞击、剪切和挤压作用。0.2mm的微小珠体能够进入微小粉体团聚缝隙,适合制备亚微米至纳米级粉体。
因此,0.2mm规格的研磨机制可以概括为 “适度冲击开路、密集剪切收尾” :冲击能量完成对团聚体的初步解构,高密度球群随后以剪切和挤压完成细化与分散。这一机制定位使其成为精磨工序的“标准答案”,当目标粒径进入亚微米乃至100纳米区间时,0.2mm级别的微球在动能输出与接触密度之间取得了平衡。
原理三:6.06 g/cm³高密度与窄分布,是剪切网络有效性的两个支撑
在0.2mm这个尺度上,球数密度对效率的贡献已经显著上升,但仅有球数并不自动产生有效的剪切网络——密度和粒径一致性的配合同样关键。
6.06 g/cm³的真密度在陶瓷介质中处于**档位。在相同转速下,更高的密度意味着每颗微球携带更大的动能。对于中高粘度的亚微米浆料,这一密度差异直接转化为研磨效率:高比重氧化锆珠可以在较低转速下获得足够的研磨动能,而低密度介质可能在粘性阻力下动能衰减过快。东丽资料明确指出,与氧化铝珠相比,这一密度优势可缩短加工周期。
±0.05mm的尺寸公差、≤0.5μm的圆度以及极窄的粒径分布,则保证球群运动行为的一致性。异形珠或粒径偏差过大的微珠会在流场中产生不规则的碰撞轨迹,造成局部过磨或研磨死区。东丽将“变形珠粒(如椭圆形/哑铃形)的掺杂比例极低”列为核心产品特性,认为这显著提高了研磨和分散效率。对于0.2mm尺度,粒径分布的一致性直接关系到成品浆料的粒径分布是否出现拖尾。
原理四:化学惰性与亚ppm级溶出,是纳米分散场景的底线
0.2mm规格的典型应用——锂电池正负极材料、电子陶瓷浆料、喷墨油墨、医药原料——对介质污染的容忍度以ppm甚至亚ppm计。亚微米和纳米分散带来的比表面积增大,使浆料对外来离子的“捕获放大效应”同步增强:微量污染在纳米颗粒表面的富集程度远高于微米级粉体。
AGB-K-0.2-C01-041的化学设计围绕这一约束展开。Fe₂O₃、SiO₂、TiO₂均≤0.01 wt% 的杂质控制,配合Y-TZP基体的化学惰性,使球体在多种浆料体系中接近不参与反应。东丽将“高纯度”列为首要产品特性,明确其意义在于“被杂质污染的可能性极低,这些杂质会影响被分散物质的特性”。磨耗率<0.01 ppm 指向的工程事实是:在亚微米研磨的长时间循环中,介质向浆料释放的异种离子量被压制在检测限附近。
在0.2mm这个尺度上,“磨得细”与“磨得干净”是同一枚硬币的两面:如果介质在精磨过程中持续释放杂质,纳米分散带来的性能增益会被污染扰动所抵消。东丽官方同时指出,产品不易腐蚀,可将被研磨材料造成的污染降至*低。
φ0.2mm的适用边界
适用场景:目标粒径进入亚微米至100纳米区间的精磨与分散工序;物料已完成初步细化,需要进一步打开残余团聚并收束粒径分布;设备为砂磨机,分离系统与0.2mm微珠匹配;浆料体系对Fe、Si及金属离子溶出的容忍度极低,典型如锂电池电极材料、电子陶瓷浆料、喷墨油墨、医药原料药粉体。
不适用场景:粗磨或中细磨——0.2mm球体不具备破碎毫米级大颗粒所需的冲击质量,无法承担实质性的粒度减小任务;分离系统不匹配的设备——微珠泄漏或堵塞的风险远高于研磨效率的收益;需要极高单次冲击能量来解构硬质大块物料的工况。
选型逻辑:AGB-K-0.2-C01-041的核心价值不在于“*细”或“*粗”,而在于在亚微米精磨区间以可忽略的污染代价完成破碎与分散的衔接。相变增韧与HIP处理为200μm球体提供了在高频循环应力下存活的韧性基础,高密度与窄分布保障了剪切网络的有效性,而0.2mm的粒径则将研磨行为定位在“适度冲击破碎”与“密集剪切分散”的过渡地带。它面向的是精磨工序的主力执行层,而非粗碎或**纳米分散的端点。
总结:AGB-K-0.2-C01-041的原理可以概括为——用Y-TZP相变增韧让200μm微球在高频剪切与碰撞中不碎裂,用HIP处理让这一机制在每一颗微珠上可靠兑现,用6.06 g/cm³的高密度和窄粒径分布构建有效的剪切网络,*终在亚微米至纳米级浆料中以亚ppm级的介质溶出完成精磨工序的破碎与分散衔接
φ0.2mm(200μm)在研磨介质谱系中处于一个关键的转折位置。它既保留了一部分足以“打开”亚微米级团聚体的动能,又开始显现出以高球数密度和密集剪切网络为主导的分散特征
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