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典型应用
气体行业、半导体工艺设备，如 CVD,MOCVD, 硅外延，光纤，太阳 能光伏等
工艺介绍
主要针对N2、H2、Ar、He 等稀有气体中杂质02、 H20、CO2, 常温下采用吸附剂的化学催化、物理吸附技术，对以上杂质深度脱除，节省空间，安装简捷，使用方便。
纯化指标表
气体类别 | 可纯化气体 | 去除杂质 | 纯化指标 |
D-惰性气体 | N2、Ar、He、Ne、Kr | H₂O、0₂、CO、CO₂、H₂ | <1ppb |
Y-氧气 | 0₂ | H₂O、CO₂ | |
Q-氢气 | H₂ | H₂O、0₂、CO、CO₂ |
*表中只列出典型的和常见的气体，更多可纯化气体请与柯林斯联系
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