参考价格
10-20万元型号
CMD 2000/04品牌
IKN产地
德国样本
暂无调速范围：
0-14000 rpm分散轮直径（mm）：
55全容积（m³）：
不限能耗：
4 kW处理量：
300-1000 L/H物料类型：
液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等工作原理：
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IKN研磨分散机设计特点，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。
碳纳米管复合材料
（1）导电塑料(聚脂)。将碳纳米管均匀地扩散到塑料中,可获得强度更高并具有导电性能的塑料。可用于静电喷涂和静电消除材料,目前汽车的塑料零件由于采用了这种材料,可用普通塑料取代原用的工程塑料,简化制造工艺,降低了成本,并获得形状更复杂、强度更高、表面更美观的塑料零部件。是静电喷涂塑料(聚脂)的发展方向。同时由于碳纳米管复合材料具有良好的导电性能,不会象绝缘塑料产生静电堆积,因此是用于静电消除、晶片加工、磁盘制造及洁净空间等领域的理想材料。碳纳米管还有静电屏蔽功能,由于电子设备外壳可消除外部静电对设备的干扰,电子设备正常工作。
（2）电磁干扰屏蔽材料及隐形材料。由于特殊的结构和介电性质,碳纳米管表现出较强的宽带微波吸收性能,它同时还具有重量轻、导电性可调变、高温抗氧化性能强和稳定性好等特点,是一种有前途的理想的微波吸收剂,可用于隐形材料、电磁屏蔽材料或暗室吸波材料。碳纳米管将用于制造具有电磁功能及吸收电磁波功能的隐形材料。
上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了分散盘。可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择） IKN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前国内设备转速的4-5倍。
行业内典型合作客户包括成都某单位，沈阳某大学，为业内单壁碳管/碳纳米管分散领域龙头地位。
IKN单壁碳管浆料高速分散机
设备其它参数:
设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器
从设备角度来分析，影响研磨分散机效果因素有以下几点：
1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）
2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）
4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）
5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）
线速度的计算：
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
所以转速和分散头结构是影响分散的一个重要因素，分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是重要的
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 流量L/H 转速rpm 线速度m/s 功率kw 入/出口连接DN
CMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15
CMD2000/5 1000 6000 23 7.5 DN40/DN32
CMD2000/10 2000 4200 23 22 DN80/DN65
CMD2000/20 5000 2850 23 37 DN80/DN65
CMD2000/30 8000 1420 23 55 DN150/DN125
CMD2000/50 15000 1100 23 110 DN200/DN150
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
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单壁碳管分散
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