溅射系统

样品室大小

直径120mm x 120mm 高

靶材

Au 靶为标配， Au:Pd， Pt， Pt:Pd （选件）;

大小：直径57mm x 0.1mm厚

样品台

可以装载12个SEM样品座，高度可调范围为50mm

溅射控制

微处理器控制，安全互锁

溅射电流

5~45mA可调

溅射头

低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩

计量表

真空： Atm - 0.001mbar，电流：0~50mA

厚度监控 (选件)

使用MTM-10高分辨厚度监控仪（选件）精确测定所镀膜的厚度

控制方法

具有气体换气和泄气功能，带有“暂停”控制的数字定时器（5－300s）

真空系统

真空泵

2级直连式高速真空泵

抽气速率

3.0 m3/小时，真空度到 0.1mb所需时间30秒.

极限真空

5 x 10-3mba

桌上系统

真空泵可置于抗震台上，全金属集成耦合系统