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主要特点
VT系列立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热，专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结，**温度可以达1600℃，采用双层壳体结构，使得壳体表面温度小于65，高纯度氧化铝纤维作为炉膛保温材料，主要应用领域如碳纳米管生长，陶瓷烧结退火，单晶生长等。
技术参数
额定功率 | 4KW |
额定电压 | AC 208-240V 50/60 Hz |
**温度 | 1600℃（1 hour） |
持续工作温度 | 500-1550℃ |
推荐升温速率 | ≤10℃/min |
炉管尺寸 | 刚玉管φ100*1200mm |
温区数量 | 两个独立温区 |
加热区长度 | 760mm |
恒温区长度 | 400mm |
控温方式 | 模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和 断偶报警功能 |
触摸屏尺寸 | 7寸 |
控温精度 | ±1℃ |
加热元件 | 8根U型 硅钼加热棒 |
法兰 | 折页法兰 |
标准配置 | 刚玉管1根，氧化铝管堵2只，不锈钢密封法兰1套，硅胶密封圈2 套，高温手套1副，坩埚钩1支 |
认证标准 | CE |
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