参考价格
10-20万元型号
CMD2000品牌
IKN产地
德国样本
暂无能耗:
0-40处理量:
300-40000物料类型:
其它工作原理:
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IKN研磨分散机设计独特,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。
镜面金浆的制备方法,包括步骤1、在一定厚度的PET薄膜上涂布一层干膜厚度不低于1um的离型涂料;步骤2、通过PVD法或者离子溅射法在薄膜涂层上镀上一层纯度≥99%的铜,形成镀铜膜,膜厚在之间;步骤3、将镀铜膜浸入一定质量的溶剂中,离型涂层被溶解后,镀铜层则从薄膜上脱落下来,分散在溶剂中;步骤4、将铜膜悬浮液进行浓缩,得到固含量不低于50%的铜膏。本发明直接制得金色金属颜料层,可以**限度的兼顾色彩和铝银浆的光亮度(镜面效果),使客户使用方便,省去调色环节,也可以降低部分成本,用该工艺制备的镜面金浆具有明艳的金色效果。
高速研磨分散机,研磨分散机是一款集研磨和分散一体化的设备,是一项新的技术革新。研磨分散机是将胶体磨(锥体磨)+高剪切分散机一体化的设备,先研磨后分散,物料研磨后又瞬间进行分散,避免了物料的二次团聚。
1、超强的剪切力,CMD2000系列研磨分散机转速高达14000rpm,线速度为44m/s,是普通设备的4-5倍。
2、高精密度的定转子,超细研磨分散机的定转子分为两级,一级为胶体磨磨头,采用三级错齿结构,磨头的沟槽的深度角度都符合流体力学的设计。第二级是分散头,IKN分散头有六种不同的规格,从粗到细,越来越密,分散效果佳。
3、机械密封,超细的效果取决于高的转速,而转速越高机械密封的发热量就会越大,设备的机械密封是否能够耐的住这么高的转速,国内大多数厂家的机械密封是无法做到的,而IKN研磨分散机采用德国博格曼双端面机械密封,并配有机封冷却系统,可以承受超高的转速,稳定性高。
高速研磨分散机CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
研磨分散机的优势:
更稳定 采用优化设计理念,将先进的技术与创新的思维有效融合,并体现在具体的设备结构设计中,为设备稳定运行提供了保证.
新结构 通过梳齿状定子切割破碎,缝隙疏密决定细度大小,超高线速度的吸料式叶轮提供超强切割力
更可靠 采用整体式机械密封,**程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题,安装与更换方便快捷.
新技术 采用国际先进的受控切割技术,将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内,满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到**允许量的10%
IKN研磨分散机设计独特,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。
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