Exicor DUV 系列是美国 Hinds Instruments 推出的深紫外光刻用双折射测量系统，专为 157nm、193nm、248nm 等 DUV 光刻波长设计，可精准测量透镜毛坯、光掩模毛坯等光学元件的本征双折射，是光刻行业光学制造的核心检测设备。

系统搭载重型自动化 XY 工作台，支持** 400×400mm、厚度超 200mm 的大尺寸光学元件检测，采用 PEMLabs™弹性调制器与 Signaloc™锁相放大器，延迟分辨率达 0.01nm，重复性 ±0.08nm，角分辨率 0.01°，重复性 ±0.5°，检测精度行业**。Exicor DUV 型号配备局部氮气置换系统，解决 157nm 紫外被氧气吸收的问题，防止臭氧生成；193 DUV 型号适配浸没式 193nm 光刻系统，无需氮气置换，风冷光源更便捷。

设备支持双轴晶格 2D/3D 图形化显示，内置高级数据分析功能，可选高速动态扫描、定制夹具、应力估算等功能，可自动运行多班次无人值守检测，适配半导体光刻、光学材料研发、精密光学制造等高端场景，为光学元件质量管控提供全流程解决方案。