在半导体材料、功能粉体、先进涂层等研发领域，微波等离子体是实现薄膜沉积、表面改性、材料活化的核心工艺，而高稳定性、可定制化的实验装置，是科研机构与企业工艺研发的核心需求。传统等离子设备要么灵活性不足，要么无法适配复杂工艺，难以满足多场景实验需求。

ARIOS MiPC-1000 微波等离子实验装置，为微波等离子体工艺研发提供了全自主设计的专业解决方案。这款设备由日本 ARIOS 全自研，从等离子源到微波电源均为自主设计，可根据客户需求灵活定制，支持 DLC 膜制备、碳纳米管生长、等离子杀菌、真空紫外照射等多种等离子体暴露实验，**适配材料研发、工艺探索等多场景使用。

设备搭载基板移动机构，可自由设定基板与等离子体的位置，适配多样化工艺；在等离子体中插入基板即可实现加热，制备金刚石薄膜无需额外加热器，也可通过远程等离子体方式避免基板升温。排气系统标配涡轮分子泵，可选配旋转泵，可实现 5.0×10⁻⁴Pa 以下的高真空环境，保障实验精度。支持多种工艺气体（H₂、Ne、N₂、Ar、O₂、CH₄等），基板**加热温度达 1000℃，可满足各类高温工艺需求。

无论是半导体材料的薄膜沉积工艺探索、功能粉体的表面改性，还是先进涂层的研发实验，ARIOS MiPC-1000 微波等离子实验装置都能提供稳定、高效的实验支持。作为日本 ARIOS 的专业设备，产品凭借全自主设计、高灵活性的优势，成为等离子体工艺研发的信赖之选，助力企业突破材料工艺瓶颈，是微波等离子体实验的核心设备。