日本 JFE 推出的 FiDiCa H 系列 FDC-H1510，是专为实验室与中小规模研发场景打造的桌面型高分辨率膜厚分布测量装置，兼顾晶圆级全域扫描与局部高精度检测，以紧凑设计实现纳米级精度，是半导体器件、光学元件等精密膜层研发与质量验证的理想工具。

这款设备支持 100 纳米至 10 微米的膜厚测量范围，适配 SiO₂、光刻胶、钝化层等多种半导体膜层。它既可以完成 6 英寸晶圆的全域扫描，约 20 万点数据采集可在 10 分钟内完成，也能实现约 3mm 角的局部测量，仅需 30 秒即可完成关键区域的快速验证。设备的空间分辨率可达约 5 微米，能精准捕捉微小膜厚偏差，同时重复再现性达 3σ<1.0 纳米，以稳定的精度为工艺验证提供可靠数据。

FDC-H1510 采用桌面型紧凑设计，设备尺寸仅为宽 500× 深 620× 高 280 毫米，无需复杂安装即可投入使用，适配实验室、研发中心等空间有限的场景。它的主要用途是设备图案上的膜厚分布测量，可广泛应用于半导体晶圆制造、先进封装工艺、光学涂层与镀膜元件的均匀性验证，为材料研发、工艺优化提供高效精准的检测支持。