中国粉体网讯 静电吸盘在半导体制造工艺的多个环节扮演着重要作用。现代半导体工艺中包含晶圆的清洗、氧化、光刻、刻蚀、沉积等环节,每个环节中又涉及到多种工序,这其中离子注入、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)等工序均[更多]
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