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公斤级粉体原子层沉积镀膜系统

公斤级粉体原子层沉积镀膜系统
  • 品牌:韫茂科技
  • 产地:福建
  • 关注度:2897
  • 型号:G1000
  • 报价:面议
  • 信息完整度:
核心参数
  • 全容积(m³):/
  • 能耗:/
  • 处理量:1-100Kg
  • 物料类型:粉状
  • 工作原理:其他
产品介绍

国内高端粉末式原子层沉积系统 GM系列 



4.jpg

原子层沉积(Atomic layer deposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术,具有自限性和自饱和。原子层沉积技术主要应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。 

5.jpg

产品描述

厦门韫茂科技公司的GM系列自动粉末原子层沉积设备它可以在微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积或分子层沉积生长,GM1000的反应室可自动运行ALD(原子层沉积)或MLD(分子层沉积),设备配有独立控制的300℃完整加热反应腔室系统,保证工艺温度均匀。该系统具有**粉末样品桶、动态粉末流化机构、全自动温度控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制,以及现场RGA、QCM、臭氧发生器、手套箱等设计选项。是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用的**研发工具。


主要技术参数

G100 Powder ALD 

技术参数 Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制备)

样品**装载量 Capacity100g(可根据需求定制, 也可放置3D基体及多片平片
样品反应温度 HeatingRT-300℃
前驱体 Max Precursor**可包括2组反应气体 8组液态或固态反应前驱体, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors 
前驱体加热**温度 Max Precursor Heating RT-200℃
包覆均一性 Uniformity<3%
成膜速率 Deposition Rate1-2A/Cycle (Al2O3)
臭氧发生器Ozone Generator可选配,生产效率15g/h
人机界面 HMI全自动化人机操作界面
安全Safety工业标准安全互锁Industry Safety Interlock,报警Alarm,EMO


G1000 Powder ALD 

技术参数 Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制备)

样品**装载量 Capacity1000g(可根据需求定制, 也可放置3D基体及多片平片
样品反应温度 HeatingRT-300℃
前驱体 Max Precursor**可包括2组反应气体 8组液态或固态反应前驱体, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors 
前驱体加热**温度 Max Precursor Heating RT-300℃
包覆均一性 Uniformity<3%
成膜速率 Deposition Rate1-2A/Cycle (Al2O3)
臭氧发生器Ozone Generator可选配,生产效率15g/h
人机界面 HMI全自动化人机操作界面
安全Safety工业标准安全互锁Industry Safety Interlock,报警Alarm,EMO



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  • 公斤级粉体原子层沉积镀膜系统的使用方法?
  • 公斤级粉体原子层沉积镀膜系统多少钱一台?
  • 公斤级粉体原子层沉积镀膜系统使用的注意事项
  • 公斤级粉体原子层沉积镀膜系统的说明书有吗?
  • 公斤级粉体原子层沉积镀膜系统的操作规程有吗?
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工商信息

企业名称

厦门韫茂科技有限公司

企业类型

信用代码

91350200MA31JEYQ4Y

法人代表

注册地址

成立日期

注册资本

有效期限

经营范围

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厦门韫茂科技有限公司成立于2018年,团队成员拥有丰富的薄膜沉积工艺及设备开发产业化经验。公司目前已拥有各类**技术近50项,入选国家级高新技术企业及厦门专精特新技术企业。韫茂科技专注于锂电池、光伏、Mini/Micro LED、先进光学、碳化硅、集成电路、超导材料和器件等领域薄膜沉积设备的研发与生产,目前已形成了以ALD原子层成膜系统、PVD物理气相沉积系统、CVD 化学气相系统、Epitaxy外延炉等一系列薄膜沉积设备为核心的产品矩阵。凭借在先进材料设备业务方面多

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