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推荐给晶圆“做美容”,为何硅溶胶成主力?

中国粉体网讯 在信息技术革命的驱动下,集成电路作为现代电子设备的核心组件,其制造技术直接决定了信息产业的竞争力。化学机械抛光(CMP)凭借其全局平坦化、低缺陷率和高可靠性等核心优势,成为集成电路制造中不可或缺的关键工艺。在基[更多]

资讯 二氧化硅晶圆抛光液氧化铝二氧化铈
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