技术特点

• 可选配大功率光源405nmLD、355nmDPSSL（Dpssl355nm激光光源寿命大于20000小时）

• 标准支持12英寸幅面基板，其他幅面可定制

• 多维光刻(偏振曝光、干涉曝光、1024阶3D曝光)

• 高精密工件台

• 高精度环控系统

• 自动聚焦，实时对准

• 分区定位，多基片，多任务曝光

• 支持自动与手动对准

• GDSII、BMP、STL等文件格式支持

规格参数

* 具体指标因工艺差异有所不同

应用示例