认证信息
认 证：工商信息已核实
访问量：7556
手机网站
扫一扫，手机访问更轻松
产品分类
产品简介
Microlab科研型多功能直写光刻系统
技术特点
可选配光源:405nmLED、405nmLD、355nmDPSSL
支持4-8英寸幅面基板
高刷新空间光调制无掩模直写
自动聚焦
3D形貌曝光、干涉曝光、偏振曝光
多模式曝光(扫描式曝光、步进式曝光)
多任务模式自动运行
GDSII、BMP、STL等文件格式支持
* 参数取决于选配工件台幅面 * 具体指标因工艺差异有所不同
应用示例
- 推荐产品
- 供应产品
- 产品分类