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氧化铝抛光液 MYH-APS80
氧化铝抛光液 MYH-APS80一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS80是高端精密制造核心耗材,通过“物理研磨+化学辅助”,去除工件表面损伤层与毛刺,获得超光滑无缺陷表面,保障工件精度与性能。 精准抛光,低损高效。 本品核心为“纳米级抛光”,以纳米氧化铝磨料实现原子级修整(Ra达纳米级),可:1. 获得镜面光洁度,满足高端装配需求;2. 减少表面缺陷,延长工件寿命;3. 兼顾...
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发表于:2026-04-21 访问量:
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铭衍海(常州)微电子有限公司
氧化铝抛光液 MYH-APS150
氧化铝抛光液 MYH-APS150一、氧化铝抛光液MYH-APS150简介氧化铝抛光液MYH-APS15是光通讯、精密金属加工等领域的核心耗材,尤其在光纤器件、不锈钢制品精密加工中发挥关键作用,核心作用是通过精密研磨抛光,去除光纤、不锈钢工件表面细微划痕、杂质及损伤层,提升表面光洁度与平整度,确保光纤传输性能、不锈钢产品品质达到行业严苛标准,助力两大领域产品升级提质。 精准提升表面精度,实现镜面级抛光。“镜...
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发表于:2026-04-21 访问量:
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铭衍海(常州)微电子有限公司
氧化铝抛光液MYH-APS05
一、产品简介:铭衍海(常州)微电子氧化铝抛光液MYH-APS05 是一款专为半导体、光学及精密金属等高端制造场景研发的酸性氧化铝抛光液,以高纯度 α- 氧化铝为磨料,采用分散技术配制的稳定水性悬浮液。专为化学机械抛光(CMP)工艺设计,通过机械研磨 + 弱化学腐蚀的协同作用,实现低损伤、高效率的超精密表面平坦化处理。 二、铭衍海氧化铝抛光液MYH-APS05 产品特点:1.精密粒径控制液...
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发表于:2026-04-21 访问量:
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铭衍海(常州)微电子有限公司
氧化铝抛光液MYH-APS100
氧化铝抛光液MYH-APS100一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS100是光通讯、精密光学等领域精密加工中的关键耗材,核心作用是通过精细抛光,去除工件表面细微划痕、提升表面光洁度与平整度,确保工件达到后续装配或使用的理想精度要求。 精细提亮表面,去除细微瑕疵。x“精细抛光”是行业术语,指通过纳米级氧化铝磨料的研磨作用,抚平工件表面微小凸起与划痕,提升表面光泽度和平面度,以实现:提升表面精度:保证工件表面...
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发表于:2026-04-21 访问量:
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铭衍海(常州)微电子有限公司
氧化铝抛光液MYH-APS400
氧化铝抛光液MYH-APS400一、氧化铝抛光液MYH-APS400简介氧化铝抛光液 MYH-APS400 是光通讯器件、精密光学元件及不锈钢精密部件生产中的核心抛光耗材,通过氧化铝磨料的温和精密研磨,高效去除工件表面细微划痕、毛刺、氧化层及加工瑕疵,显著提升表面光洁度、平整度与镜面效果,确保工件满足高精度光学、物理及外观性能要求,保障装配稳定性与使用寿命。 二、铭衍海氧化铝抛光液MY...
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发表于:2026-04-21 访问量:
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金刚石抛光液 MYH-DPS80
金刚石抛光液 MYH-DPS80产品简介金刚石抛光液 MYH-DPS80 是精密制造核心抛光耗材,以高纯度金刚石微粉为核心磨料,通过精密磨削抛光,精准控制工件表面粗糙度,实现镜面级抛光效果,消除加工划痕、微裂纹等缺陷,保障精密零部件的表面精度与使用性能。 产品特点1. 粒度精准:磨粒分级严格、分布窄,纳米级精准去除,抛光无划痕、麻点。2. 高效切削:高纯度金刚石磨料刃口锋利,对超硬材料去...
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铭衍海(常州)微电子有限公司
金刚石抛光液 MYH-DPS200
金刚石抛光液 MYH-DPS200金刚石抛光液简介金刚石抛光液 MYH-DPS200 是以高纯度纳米金刚石微粉为核心磨料,搭配精准配比的分散、润滑、冷却体系制成的精密加工核心耗材,核心作用是通过超精密抛光加工,对硬质合金、陶瓷、高温合金等超硬材料工件表面进行高效磨削与镜面处理,精确控制工件表面粗糙度与平整度,确保精密制造零部件达到理想的表面精度与物理性能。 超精密镜面抛光是精密制造行业核心工艺,指通过金刚石...
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发表于:2026-04-21 访问量:
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铭衍海(常州)微电子有限公司
金刚石抛光液 MYH-DPS500
金刚石抛光液 MYH-DPS500金刚石抛光液简介金刚石抛光液 MYH-DPS500 是铭衍海针对高端精密制造研发的超精细抛光耗材,以高纯度微米级金刚石微粉为核心磨料,搭配定制化复合体系制成,核心作用是对硬质合金、陶瓷、高温合金等超硬难加工材料进行超精密抛光,精准控制表面粗糙度与平面度,实现镜面级表面精度,保障零部件优异物理性能。 通过精准可控切削实现纳米级镜面抛光,可达成:1. 消除表面微瑕疵,...
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碳化硅抛光液 MYH-SCPS500
碳化硅抛光液 MYH-SCPS500碳化硅抛光液简介碳化硅抛光液 MYH-SCPS500 是第三代半导体碳化硅材料加工的核心精密抛光耗材,通过化学机械协同抛光,实现碳化硅晶片 / 器件表面原子级平坦化,精准控制表面粗糙度与面型精度,消除加工损伤层,保障碳化硅基器件在光电、半导体领域的高性能应用。 超净抛光(行业术语):通过化学腐蚀 + 机械研磨双重作用,去除碳化硅加工产生的刀纹、变质层及亚表面损伤,将表面粗...
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氧化硅抛光液 MYH-SOP420
氧化硅抛光液 MYH-SOP420产品简介铭衍海 MYH-SOP420 是半导体制程 CMP 工艺核心抛光耗材,核心为电子级高纯度纳米球形氧化硅磨粒,依托化学机械抛光协同特性,实现硅晶圆、介质层、金属互连层纳米级精密抛光,无损伤、无残留、平整度优异,契合半导体前 / 后道制程严苛标准,亦可兼容光通信器件端面超精密抛光,一液多用适配多场景。 通过精准抛光实现:1. 半导体基材无晶格损伤,为后续制程奠...
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铭衍海(常州)微电子有限公司
氧化硅抛光液 MYH-SOP480
氧化硅抛光液 MYH-SOP480产品简介铭衍海氧化硅抛光液 MYH-SOP480 为光通信 + 半导体双领域超精密抛光核心耗材,核心成分为电子级高纯度超细纳米氧化硅磨粒,依托柔性抛光原理,可实现光学器件端面原子级光洁、半导体晶圆纳米级平整,无损伤精整基材,兼顾光通信超低插损需求与半导体制程严苛标准,适配高端量产加工。 超精密镜面抛光,双领域高端适配,实现:1. 光器件超低插损、超高回波损耗,满足...
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日本 ORION MG40 露点监测仪,是专为工业环境开发的温湿度露点监控设备,支持室内和压缩空气两种应用场景,可同时完成温度、湿度、露点的监测与管理,广泛用于洁净空气系统、压缩空气管路的环境质量控制。设备可同时显示温度与湿度 / 露点数据,湿度与露点可切换显示,测量范围覆盖湿度 0.1% 至 99.9%、温度 - 20℃至 + 80℃、露点 - 60℃至 + 40℃,显示分辨率可达 0.1 级,数据读取直观便捷。设...
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