技术文章_网上粉体展_中国粉体网

首页 >> 网上粉体展 >> 技术文章

技术文章共11103篇

氧化硅抛光液 MYH-SOP40

氧化硅抛光液 MYH-SOP40一、氧化硅抛光液简介氧化硅抛光液（也称胶态二氧化硅抛光液）是化学机械抛光（CMP）工艺中的核心耗材，核心作用是通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，实现材料表面纳米级平坦化加工，确保抛光工件达到超光滑、低损伤的表面精度要求。精准实现纳米级平坦化，兼顾抛光效率与表面质量。“纳米级平坦化” 是行业核心要求，指通过抛光将材料表面粗糙度控制在纳米级范围，同时实现无划痕、无麻点、无残留的超净表面，以...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：386次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铝抛光液 MYH-APS08

氧化铝抛光液 MYH-APS08一、氧化铝抛光液简介氧化铝抛光液（也称纳米氧化铝抛光液）是精密加工领域的关键耗材，核心作用是通过精密研磨抛光，去除工件表面细微划痕、提升表面光洁度与平整度，确保工件达到后续加工或使用的理想表面状态，广泛适配多种材质的精密抛光需求。高效提升表面光洁度，优化抛光效果。 “精密抛光”是核心工序，通过氧化铝磨料修整工件表面，去除瑕疵与划痕，实现：提升产品精度：保障工件表面...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：303次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铝抛光液 MYH-APS80

氧化铝抛光液 MYH-APS80一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS80是高端精密制造核心耗材，通过“物理研磨+化学辅助”，去除工件表面损伤层与毛刺，获得超光滑无缺陷表面，保障工件精度与性能。精准抛光，低损高效。本品核心为“纳米级抛光”，以纳米氧化铝磨料实现原子级修整（Ra达纳米级），可：1. 获得镜面光洁度，满足高端装配需求；2. 减少表面缺陷，延长工件寿命；3. 兼顾...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：307次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铝抛光液 MYH-APS150

氧化铝抛光液 MYH-APS150一、氧化铝抛光液MYH-APS150简介氧化铝抛光液MYH-APS15是光通讯、精密金属加工等领域的核心耗材，尤其在光纤器件、不锈钢制品精密加工中发挥关键作用，核心作用是通过精密研磨抛光，去除光纤、不锈钢工件表面细微划痕、杂质及损伤层，提升表面光洁度与平整度，确保光纤传输性能、不锈钢产品品质达到行业严苛标准，助力两大领域产品升级提质。精准提升表面精度，实现镜面级抛光。“镜...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：291次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铝抛光液MYH-APS05

一、产品简介：铭衍海（常州）微电子氧化铝抛光液MYH-APS05 是一款专为半导体、光学及精密金属等高端制造场景研发的酸性氧化铝抛光液，以高纯度 α- 氧化铝为磨料，采用分散技术配制的稳定水性悬浮液。专为化学机械抛光（CMP）工艺设计，通过机械研磨 + 弱化学腐蚀的协同作用，实现低损伤、高效率的超精密表面平坦化处理。二、铭衍海氧化铝抛光液MYH-APS05 产品特点：1.精密粒径控制液...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：371次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铝抛光液MYH-APS100

氧化铝抛光液MYH-APS100一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS100是光通讯、精密光学等领域精密加工中的关键耗材，核心作用是通过精细抛光，去除工件表面细微划痕、提升表面光洁度与平整度，确保工件达到后续装配或使用的理想精度要求。精细提亮表面，去除细微瑕疵。x“精细抛光”是行业术语，指通过纳米级氧化铝磨料的研磨作用，抚平工件表面微小凸起与划痕，提升表面光泽度和平面度，以实现：提升表面精度：保证工件表面...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：285次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铝抛光液MYH-APS400

氧化铝抛光液MYH-APS400一、氧化铝抛光液MYH-APS400简介氧化铝抛光液 MYH-APS400 是光通讯器件、精密光学元件及不锈钢精密部件生产中的核心抛光耗材，通过氧化铝磨料的温和精密研磨，高效去除工件表面细微划痕、毛刺、氧化层及加工瑕疵，显著提升表面光洁度、平整度与镜面效果，确保工件满足高精度光学、物理及外观性能要求，保障装配稳定性与使用寿命。二、铭衍海氧化铝抛光液MY...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：321次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
金刚石抛光液 MYH-DPS80

金刚石抛光液 MYH-DPS80产品简介金刚石抛光液 MYH-DPS80 是精密制造核心抛光耗材，以高纯度金刚石微粉为核心磨料，通过精密磨削抛光，精准控制工件表面粗糙度，实现镜面级抛光效果，消除加工划痕、微裂纹等缺陷，保障精密零部件的表面精度与使用性能。产品特点1. 粒度精准：磨粒分级严格、分布窄，纳米级精准去除，抛光无划痕、麻点。2. 高效切削：高纯度金刚石磨料刃口锋利，对超硬材料去...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：347次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
金刚石抛光液 MYH-DPS200

金刚石抛光液 MYH-DPS200金刚石抛光液简介金刚石抛光液 MYH-DPS200 是以高纯度纳米金刚石微粉为核心磨料，搭配精准配比的分散、润滑、冷却体系制成的精密加工核心耗材，核心作用是通过超精密抛光加工，对硬质合金、陶瓷、高温合金等超硬材料工件表面进行高效磨削与镜面处理，精确控制工件表面粗糙度与平整度，确保精密制造零部件达到理想的表面精度与物理性能。超精密镜面抛光是精密制造行业核心工艺，指通过金刚石...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：294次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
金刚石抛光液 MYH-DPS500

金刚石抛光液 MYH-DPS500金刚石抛光液简介金刚石抛光液 MYH-DPS500 是铭衍海针对高端精密制造研发的超精细抛光耗材，以高纯度微米级金刚石微粉为核心磨料，搭配定制化复合体系制成，核心作用是对硬质合金、陶瓷、高温合金等超硬难加工材料进行超精密抛光，精准控制表面粗糙度与平面度，实现镜面级表面精度，保障零部件优异物理性能。通过精准可控切削实现纳米级镜面抛光，可达成：1. 消除表面微瑕疵，...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：275次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
碳化硅抛光液 MYH-SCPS500

碳化硅抛光液 MYH-SCPS500碳化硅抛光液简介碳化硅抛光液 MYH-SCPS500 是第三代半导体碳化硅材料加工的核心精密抛光耗材，通过化学机械协同抛光，实现碳化硅晶片 / 器件表面原子级平坦化，精准控制表面粗糙度与面型精度，消除加工损伤层，保障碳化硅基器件在光电、半导体领域的高性能应用。超净抛光（行业术语）：通过化学腐蚀 + 机械研磨双重作用，去除碳化硅加工产生的刀纹、变质层及亚表面损伤，将表面粗...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：286次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化硅抛光液 MYH-SOP420

氧化硅抛光液 MYH-SOP420产品简介铭衍海 MYH-SOP420 是半导体制程 CMP 工艺核心抛光耗材，核心为电子级高纯度纳米球形氧化硅磨粒，依托化学机械抛光协同特性，实现硅晶圆、介质层、金属互连层纳米级精密抛光，无损伤、无残留、平整度优异，契合半导体前 / 后道制程严苛标准，亦可兼容光通信器件端面超精密抛光，一液多用适配多场景。通过精准抛光实现：1. 半导体基材无晶格损伤，为后续制程奠...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：369次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化硅抛光液 MYH-SOP480

氧化硅抛光液 MYH-SOP480产品简介铭衍海氧化硅抛光液 MYH-SOP480 为光通信 + 半导体双领域超精密抛光核心耗材，核心成分为电子级高纯度超细纳米氧化硅磨粒，依托柔性抛光原理，可实现光学器件端面原子级光洁、半导体晶圆纳米级平整，无损伤精整基材，兼顾光通信超低插损需求与半导体制程严苛标准，适配高端量产加工。超精密镜面抛光，双领域高端适配，实现：1. 光器件超低插损、超高回波损耗，满足...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：348次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
介可视整车体积扫描水分测量系统｜废纸 / 纤维原料整车在线水分准确检测

一、产品概述在废纸回收、造纸、纤维加工等粉体与固废原料行业，整车物料水分含量直接决定采购定价、原料配比、干燥能耗与成品品质。传统人工抽样、实验室化验存在取样代表性差、效率低、人为误差大、无法全负载检测等痛点。介可视JKS-IMG-P整车水分测量系统，专为废纸包整车在线非接触水分测量设计，融合低频微波水分检测与3D 光学轮廓扫描技术，实现整卡车、全负载、无破坏、一分钟快速出数，为原料验收、供应链结算、生产配料提供准确、...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-21 访问量：850次来源：介可视（北京）机电技术有限公司
美韩干法电极新进展

【引言】无溶剂干法电极工艺凭借零溶剂、低能耗、流程简化的核心优势，成为下一代锂电制造的核心变革方向。但干法电极长期面临PTFE粘结剂降解、导电网络构建不均、高负载与高压工况下稳定性不足等技术难题，制约了产业化落地。近期，韩国和美国研究团队接连发表干法重磅研究（，），分别从多功能添加剂改性与电极架构设计两大维度，攻克干法电极核心瓶颈，实现工艺性与电化学性能的同步跃升，为干法电极规模化应用扫清关键障碍。【传统湿法电极的...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-20 访问量：800次来源：光年固科（苏州）科技有限公司
疏水气相二氧化硅在环氧防腐涂料中的防沉降作用

在海洋工程、石油化工设备、跨海大桥等重防腐领域，环氧防腐涂料以其优异的附着力、耐化学腐蚀性和机械性能，长期扮演着钢结构“守护神”的角色。然而，环氧防腐涂料中通常添加了大量的锌粉、填料等固体组分，在储存和运输过程中极易发生沉降——轻则导致涂料分层、性能不均，重则在罐底形成硬结块，严重影响施工效果和使用寿命。如何有效抑制沉降、保持体系稳定性，成为配方工程师关注的核心课题之一。在此背景下，疏水型气相二氧化硅凭借其独特的三维...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-20 访问量：550次来源：湖北汇富纳米材料股份有限公司
机械密封中沸腾半径的影响因素有哪些？-上海克兰机械密封百科分享

在计算轻烃泵机械密封膜压系数的公式中，有个沸腾半径的因素，它与其他因素比较，是个最敏感最活跃的变量。表面看来是个长度单位，实际上它受很多因素影响。是介质性质（饱和蒸汽压、沸点和组分）、工作条件（转速、压力和温度等），密封参数和摩擦副材料的函数。所有这些因素都通过密封端面温度来改变沸腾半径的大小。例如，介质温度（或室温）升高，组分变轻（即饱和蒸汽压升高），转速升高、端面比压增大，摩擦副材料导热性能差等，都会使端面温度升...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-20 访问量：465次来源：上海克兰密封件有限公司
介可视JKS-HUMY3000在线高频电容水分仪，工业固体物料准确水分测控方案

在工业生产中，水分是决定产品质量、工艺稳定性与生产成本的关键指标。无论是烘干、加湿、配料、仓储还是输送环节，准确、连续、非接触的水分监测，都是实现工艺优化与智能化控制的核心。介可视依托高频电容测量技术与多年工程经验，推出JKSHUMY3000 在线高频电容水分仪，为各类固体物料提供从表层到核心的全穿透高精度水分测量，广泛应用于电力、冶金、化工、建材、食品、粮食、烟草、环卫等领域。一、产品概述JKSHUMY3000...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-20 访问量：541次来源：介可视（北京）机电技术有限公司
雷蒙特超声波振动筛专解决精细粉末易聚团，吸附性强难筛分物料

超声波振动筛加装超声波装置，产量高于普通筛分机，可用于强吸附性、易团聚、高静电、高精细、高密度、轻比重等精细粉末筛分。物料选择：碳化硅、合金钨粉、维生素粉、花粉、镍粉、洗衣粉、石墨粉、金属粉、硫磺粉超声波振动筛是在普通振动筛基础上加装了超声波筛分系统，也叫超声波振动筛筛分机，超声波振动筛分机使用了超声波换能器...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-20 访问量：441次来源：新乡市雷蒙特机械有限公司
一台设备让淀粉筛分效率翻倍的秘密

上海某食品添加剂工厂的质检员李姐最近愁眉不展——车间新采购的玉米淀粉在筛分环节频繁堵塞筛网，导致质检报告延迟三天才能出具。"这批次原料水分稍高，颗粒又容易抱团，振动筛震得越猛，结块反而越大。"她调试了三次参数，结果依然不尽如人意。直到接触了小型负压气流筛，这个问题才有了转机。一、这台设备到底是什么原理？这台设备的核心在于：负压+气流双效驱动。当物料倒入筛腔后，连接的吸尘器瞬...

访问公司展台进入产品中心

发表于：2026-04-20 访问量：505次来源：纳维加特（上海）筛分技术有限公司

1
...
37
38
39
40
41
42
43
44
45
...
556