产品概述
　　该设备具备磁控溅射和脉冲激光镀膜两种 功能，配置多个磁控靶和多个激光靶材，两种镀膜方法实现**互补。
产品优势：
　　1、超高真空磁控靶，满足 使用环境；
　　2、具有手动和自动两种功能；
　　3、具有远程控制功能；
　　4、靶的倾斜角程序控制调节，镀膜重复性好；
　　5、溅射气压控制30秒以内完成；
　　6、售后服务好，保证客户高效使用设备；
　　7、可实现脉冲激光和磁控溅射组合镀膜。

技术参数