产品概述
　　等线原子层沉积（atomiclayerdeposition, ALD）是通过气相前驱体及反应物脉冲交替的通入反应腔并在基底上发生表面化学反应形成薄膜的一种方法，通过自限制性的前驱体交替饱和反应获得厚度、组分、形貌及结构在纳米尺度上高度可控的薄膜。
产品优势：
　　1、高温度均匀性和镀膜均匀性；
　　2、扩展进样室；
　　3、前驱体路数可定制；
　　4、可扩展等离子体功能；
　　5、具有手动和自动两种功能；
　　6、具有远程控制功能；
　　7、售后服务好，保证客户高效使用设备。

技术参数