产品概述
　　反应离子刻蚀（RIE）是一种操作简单、经济实惠的通用等离子体刻蚀解决方案；
　　系统采用射频平板电容放电方式，充满反应腔室的气体分子，在射频电场作用下被电离而产生等离子体；等离子体中的活性基团与被刻蚀材料表面发生化学反应，同时在垂直于样片表面的射频自偏压作用下，实现了垂直于样片表面向下的各向异性刻蚀。
产品优势：
　　1、刻蚀均匀性高，4英寸样品可达到±4%以内；
　　2、具有手动和自动两种功能；
　　3、具有远程控制功能；
　　4、售后服务好，保证客户高效使用设备。

技术参数