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森泽其它辅助设备
森泽BEM-310
其它辅助设备



这是一种利用臭氧和HF对硅晶圆整个表面进行体蚀刻的装置。
由于是气体蚀刻,晶圆表面不会产生水滴。
晶圆中的污染物不会通过蚀刻作用转移到其他位置。
这是在洁净室中使用的独立式设备。
蚀刻是对单片材料进行整体处理,但通过映射采集也可实现局部评估。
晶圆的搬运需要人工操作,但设备控制则通过电脑完成,因此操作起来十分简单。
| 装置名 | BEM-310 | |||||||
| 对应晶圆尺寸 | 200毫米、300毫米 | |||||||
| 操作 | 本体内置的电脑 | |||||||
| 批量蚀刻功能 | 〇 | |||||||
| 回收率能力 | ±10%以内 | |||||||
| 蚀刻后的平整度 | ±10%以内 | |||||||
| 外形(宽×深×高)(毫米)(※1) | 1000×1300×2000 | |||||||
| 重量 | 约150kg | |||||||
| 使用设备 | 酸排水、一般排气、酸排气 | |||||||
| 必要实用工具 | 电源(AC100V,200V)、纯水、O2、N2、HF | |||||||
※1:不包括凸起物。
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企业名称
深圳森泽工业品有限公司企业类型
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91440300MAKDH8EP3N法人代表
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日本 NAS 技研 BEM-310 批量基体蚀刻装置(晶圆体蚀刻设备)由深圳森泽工业品有限公司提供,产地为日本,属于进口其它辅助设备,符合多项国家和国际标准,广泛应用于食品/饮料、石油/化工、矿业/冶金、轻工业、能源等领域,日本 NAS 技研 BEM-310 批量基体蚀刻装置(晶圆体蚀刻设备)凭借其创新性与实用性,在其它辅助设备用户中获得广泛关注。
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根据森泽官方产品资料显示:日本 NAS 技研 BEM-310 批量基体蚀刻装置(晶圆体蚀刻设备)的功率(kw)为1.4kW,重量(kg)为约150kg,规格外形(长*宽*高)为1000×1300×2000mm,日本 NAS 技研 BEM-310 批量基体蚀刻装置(晶圆体蚀刻设备)的价格为300元,具体型号是BEM-310 。
| 产品名称 | 品牌 | 型号 | 产地类型 | 价格 |
|---|---|---|---|---|
| 日本 NIKUNI 层叠混合元件 静态混合器 MSE 型 | MSE 型 | 进口 | 300元 | |
| 日本 JEOL TP-99260FDR 粉体供给装置 | TP-99260FDR | 进口 | 300元 | |
| 日本 SHINKA 新科产业 间歇式超声波反应装置 SR 系列 | SR 系列 | 进口 | 300元 |
