TCMD 为可外部信号闭环控制的超高效率化学搅拌设备，适配 CMP 抛光浆料、各类化学药液搅拌工况。设备搭载 DC 无刷电机，可接入液位计、称重传感器等外部信号，跟随浆液容量自动调节搅拌转速，适配自动化药液供给、浆料循环储罐系统。

特殊结构叶轮可降低搅拌过程气泡卷入，避免 CMP 抛光液因混入气泡影响抛光良率；接液部件选用耐蚀材质，适配氧化铈、硅溶胶、氧化铝等各类 CMP 浆料以及酸碱化学品。机身轻量化设计，便于罐体顶部安装、设备内置集成；具备过载保护，异常状态 LED 报警提示。广泛用于半导体 CMP 抛光浆料储存罐循环搅拌、药液调配、试验设备集成等场景。

特点

・可通过液位计、负荷传感器等的外部信号来控制转速。 ・外部控制信号可以是4～20mA，也可以是0～5V，可在主机上进行切换。 ・可通过启动/停止、旋转脉冲、错误信号以及错误重置来对序列器等进行控制。 ・可进行以10rpm为间隔的精细转速控制。 ・通过表面触摸开关即可轻松操作。 ・机身材质采用AES，因此重量较轻 ・表面配有四位数LED显示屏，可实时显示当前的转速。 ・过载时会自动停止，同时会亮起指示故障的LED灯。 ・电源为DC24V。此外还提供交流适配器及电源供应器作为可选配件。 ・由于主机与电缆通过连接器连接，因此可一键拆卸。

用途

・浆液的搅拌。 ・集成到测试装置中。 ・避免卷入空气的液体搅拌。 ・需要在外部控制的现场使用。 可实现与液体量成比例的转速控制 可通过液位计、载荷传感器等设备传来的外部信号，实现与液位成比例的转速控制

规格