GL150 CLIV & GL300 CLIV是天仁微纳新型全自动高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可实现**150/300mm晶圆面积上高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10：1*）纳米结构复制量产。

该设备支持cassette to cassette自动上下片、自动复制柔性复合工作模具，工作模具自动更换。全部工艺过程在密闭洁净环境中进行，以保证压印结果质量。CLIV技术的应用保证了大面积纳米压印过程中结构精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。GL150 CLIV & GL300 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产。