GL P6 SR是天仁微纳新型全自动面板级步进式（Step & Repeat）高精度紫外纳米压印光刻设备，可将小面积模具通过步进式压印方式高精度复制到G6面板（1850x1500mm）基底上，拼版单元尺寸可灵活精确定义，轻松应对各种母模具由小转大需求，**解决面板级微纳结构母模具（Master）制造困难问题。

配合天仁微纳面板级压印设备（GL P6 R2P）或者辊对辊压印设备（GL 2200 R2R），可分别实现在刚性/柔性基底上大幅面、高效率微纳结构连续生产。

GL P6 SR纳米压印光刻设备可用于生产适配于天仁微纳面板级辊对版压印设备（GL P6 R2P）所需的大幅面母模具（Master），也适用于微透镜阵列、裸眼3D、AR/VR、LCD增亮膜以及电子纸等显示领域的研发和量产。

主要功能

G6代线（1850mmx1500mm）全自动面板级步进式高精度紫外纳米压印光刻设备；

步进式纳米压印方式，确保转印精度一致性，大幅度降低母模具加工成本；

高精度压印胶涂布单元，可选用Inkjet或Puddle Dispense涂布方式；

自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预；

标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>2000mW/cm2），水冷冷却、特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，**支持各种商用纳米压印材料与制程；曝光范围可通过光刻工艺精确定义；

随机提供全套纳米压印工艺与材料以及工艺流程，帮助客户零门槛达到国际**的纳米压印水平。