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泰科诺半导体行业专用仪器
泰科诺高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600
国产半导体行业专用仪器
设备型号：TEMD600
镀膜方式：E 型电子枪
真空腔室结构：立式圆柱形侧开门结构，后置抽气系统
真空腔室尺寸：Φ600mm×H750mm
加热温度：室温～ 300℃
基片台尺寸：平板型 Φ350mm，或球罩型基片台 ( 可选 )
膜厚不均匀性：≤ ±5.0%
考夫曼离子源：可选
蒸发源：电子枪 10KW，６穴坩埚，国产／进口（可选）， 配２套电阻蒸发
控制方式：PLC/PC（可选）
占地面积：L2500mm×W1600mm
总功率：≥ 17kW
大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。
1. 设备一体化设计，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；
2. 可用于生产线前期工艺试验等；
3. 实验室制备导电薄膜、半导体膜、光学薄膜等，可同手套箱复合使用。
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企业名称
北京泰科诺科技有限公司企业类型
信用代码
9111011475217349XB法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围
400-810-0069转4101
高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600由北京泰科诺科技有限公司提供，产地为北京，属于国产半导体行业专用仪器，符合多项国家和国际标准，广泛应用于石油/化工、综合其他等领域，高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600凭借其创新性与实用性，在半导体行业专用仪器用户中获得广泛关注。
据中国粉体网显示：该产品已通过粉体网认证，在产品性能、服务能力等维度表现优异，用户平均评分达9.5（满分 10 分）。
根据泰科诺官方产品资料显示：高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600的品牌为北京泰科诺。
| 产品名称 | 品牌 | 型号 | 产地类型 | 价格 |
|---|---|---|---|---|
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