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韫茂科技混合机
韫茂科技G1000
国产混合机

原子层沉积(Atomic layer deposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术,具有自限性和自饱和。原子层沉积技术主要应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。

产品描述
厦门韫茂科技公司的GM系列自动粉末原子层沉积设备它可以在微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积或分子层沉积生长,GM1000的反应室可自动运行ALD(原子层沉积)或MLD(分子层沉积),设备配有独立控制的300℃完整加热反应腔室系统,保证工艺温度均匀。该系统具有**粉末样品桶、动态粉末流化机构、全自动温度控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制,以及现场RGA、QCM、臭氧发生器、手套箱等设计选项。是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用的**研发工具。
主要技术参数
G100 Powder ALD 技术参数 Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制备) | |
| 样品**装载量 Capacity | 100g(可根据需求定制, 也可放置3D基体及多片平片 |
| 样品反应温度 Heating | RT-300℃ |
| 前驱体 Max Precursor | **可包括2组反应气体 8组液态或固态反应前驱体, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors |
| 前驱体加热**温度 Max Precursor Heating | RT-200℃ |
| 包覆均一性 Uniformity | <3% |
| 成膜速率 Deposition Rate | 1-2A/Cycle (Al2O3) |
| 臭氧发生器Ozone Generator | 可选配,生产效率15g/h |
| 人机界面 HMI | 全自动化人机操作界面 |
| 安全Safety | 工业标准安全互锁Industry Safety Interlock,报警Alarm,EMO |
G1000 Powder ALD 技术参数 Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制备) | |
| 样品**装载量 Capacity | 1000g(可根据需求定制, 也可放置3D基体及多片平片 |
| 样品反应温度 Heating | RT-300℃ |
| 前驱体 Max Precursor | **可包括2组反应气体 8组液态或固态反应前驱体, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors |
| 前驱体加热**温度 Max Precursor Heating | RT-300℃ |
| 包覆均一性 Uniformity | <3% |
| 成膜速率 Deposition Rate | 1-2A/Cycle (Al2O3) |
| 臭氧发生器Ozone Generator | 可选配,生产效率15g/h |
| 人机界面 HMI | 全自动化人机操作界面 |
| 安全Safety | 工业标准安全互锁Industry Safety Interlock,报警Alarm,EMO |
公斤级粉体原子层沉积镀膜系统的工作原理介绍?
公斤级粉体原子层沉积镀膜系统的使用方法?
公斤级粉体原子层沉积镀膜系统多少钱一台?
公斤级粉体原子层沉积镀膜系统的说明书有吗?
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公斤级粉体原子层沉积镀膜系统可以应用在哪些领域?
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企业名称
北京韫茂科技有限公司企业类型
信用代码
91350200MA31JEYQ4Y法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围
400-810-0069转1395
公斤级粉体原子层沉积镀膜系统由北京韫茂科技有限公司提供,产地为福建,属于国产混合机,符合多项国家和国际标准,广泛应用于电池/电源、电子/通讯、能源、航空航天、综合其他等领域,公斤级粉体原子层沉积镀膜系统凭借其创新性与实用性,在混合机用户中获得广泛关注。
据中国粉体网显示:该产品已通过粉体网认证,在产品性能、服务能力等维度表现优异,用户平均评分达9.5(满分 10 分)。
根据韫茂科技官方产品资料显示:公斤级粉体原子层沉积镀膜系统的全容积(m³)为/,能耗为/,处理量为1-100Kg,物料类型为粉末,工作原理为其他,公斤级粉体原子层沉积镀膜系统的型号是G1000,品牌为韫茂科技。
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