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韫茂科技实验设备
韫茂科技QBT-F
国产实验设备
双腔型超高真空蒸镀系统

技术参数:
1高真空腔体:2个高真空腔体包括负荷锁及Evaporation,极限真空极限压力<2e-8 Torr
2排气速率:ATM到3E-7 Torr<20分钟(装载锁)
3基板加热:RT-600ºC
4离子束清洗:考夫曼离子源,离子能量100-600 eV, 100-1200eV; 离子束电流::20-200mA,或100基板刻蚀
均一性<3%
5高压电源:6-10千瓦电源,1-6源口袋
6成膜均匀性:<3%(6inch Wafer)
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双腔型超高真空蒸镀系统的使用方法?
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企业名称
北京韫茂科技有限公司企业类型
信用代码
91350200MA31JEYQ4Y法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围
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双腔型超高真空蒸镀系统由北京韫茂科技有限公司提供,产地为福建,属于国产实验设备,符合多项国家和国际标准,广泛应用于电池/电源、电子/通讯、综合其他等领域,双腔型超高真空蒸镀系统凭借其创新性与实用性,在实验设备用户中获得广泛关注。
据中国粉体网显示:该产品已通过粉体网认证,在产品性能、服务能力等维度表现优异,用户平均评分达9.5(满分 10 分)。
根据韫茂科技官方产品资料显示:双腔型超高真空蒸镀系统的型号是QBT-F,品牌为韫茂科技。
| 产品名称 | 品牌 | 型号 | 产地类型 | 价格 |
|---|---|---|---|---|
| 超高真空多腔体磁控溅射系统 | 韫茂科技 | QBT-MP | 国产 | 电议 |
| 公斤级粉末ALD | 韫茂科技 | KG | 国产 | 电议 |
| 桌面型原子层沉积系统 | 韫茂科技 | MINI | 国产 | 电议 |
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