中国粉体网讯 近日,洪田股份控股公司洪镭光学自主研发的应用于半导体掩模版领域的直写光刻机(型号HL-P3)与TGV玻璃基板直写光刻机(型号HL-P6)顺利下线,完成打包装运并发往订单需求客户。直写光刻技术作为微纳制造的核心支[更多]
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