中国粉体网讯  半导体芯片制程中所用的光刻机是最重要、最复杂、最昂贵的集成电路制造装备，也被称为半导体制造的“母机”，其技术难度之大、单价之高在全球均属罕见，又被誉为“超精密尖端装备的珠穆朗玛峰”，挑战着人类超精密制造的精度和性能极限。光刻机中的光学系统是其最关键且最复杂的部分之一，包括照明系统和投影物镜两大核心组成部分。投影物镜是光刻机中实现精准成像的关键部件，它的主要作用是将掩模图形按照一定缩放比例成像到硅片上。其中，投影物镜镜头的材料大多采用熔融石英，据中国粉体网了解，可以稳定供应满足193 nm光刻等级的熔融石英的厂家仅有德国Heraeus公司、Schott公司、美国Corning公司、德国蔡司公司等极少数几家。（..【详细】