用于CMP工艺过滤的高效深度过滤器

用于化学机械抛光工艺的Profile II型深度过滤滤芯，能够有效去除氧化物、钨和铜浆料中的聚集颗粒及凝胶，同时不会扰乱颗粒的分布状态。这类滤芯具有极高的过滤效率，因此几乎不会带走那些有用的浆料颗粒，同时却能大幅减少超大颗粒的残留。

为何选择CMP深度过滤滤芯？

这类深度过滤器的过滤精度可在0.2微米到40微米之间，其过滤精度是传统深度过滤器的5到10倍。此外，它们还拥有均匀分布的孔结构，从而可实现预过滤功能。

全新滤芯结构与过滤机制

滤芯外侧部分（锥形孔结构→延长过滤寿命）

该部分孔径随向内延伸而逐渐减小，从而实现高效预过滤；凭借连续的孔径变化与深度过滤效应，可显著延长过滤寿命

滤芯内侧部分（恒定孔径结构→可靠过滤）

该部分孔径保持恒定且均匀，可实现精准过滤。

材质

¹ 桑普雷恩（Santoprene）为埃克森美孚化工公司商标

适用外壳

（注）在 40℃以上高温条件下使用时，请与各营业所咨询。

特点与优势 

■ 具备额定过滤精度 

■ 无滤材转移或剥离现象

■ 低压降 

■ 无异物泄漏 

■ 高集尘能力

■ 广泛的流体适用性

规格