​薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广泛，可以是单质元素或化合物，也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。在常压下

​近日，美国商务部工业和安全局发布了针对芯片的出口禁令新规，对中国半导体的打压进一步升级。事实上，与“芯片制裁”一同发起的还有“舆论制裁”。美国发起科技战、贸易战、金融战之时，舆论战也在同步开打，或运用硬手段进行舆论威慑和舆论打击，或运用软手段进行舆论笼络和“捧杀”。这样做的目的，无非是为了遏制中国的

​全球气候变暖及化石能源日益枯竭的大背景下，过去几年能源转型趋势势不可挡，光伏产业迎来了历史性最佳发展机遇期。全球光伏新增装机量快速爆发，在不断刷新行业发展速度的同时，也吸引了大量资金“疯狂”涌入行业。至2023年底，光伏制造端的硅料、硅片、电池片、组件四个环节产能均超过900GW，而长江证券研究所的

​电子束蒸发（Electron Beam Evaporation）是物理气相沉积的一种形式，其中待蒸发材料被来自带电钨丝的电子束轰击，当电子束撞击目标材料时，它的能量转化为热能，使目标材料达到蒸发的状态，并将其转化为气态，在高真空室中，这些蒸发的原子或分子随后沉积在基板上形成薄膜。电子束蒸发真空镀膜设

​随着稳增长稳就业稳物价各项政策措施落地显效，工业生产稳步恢复，制造业增速加快，装备制造业支撑明显。国家统计局数据显示，从产品来看，太阳能电池（光伏电池）产量同比增长53.2%。根据国家统计局数据，今年9月份，我国太阳能电池（光伏电池）产量实现51.4GW，而去年9月份仅为29.8GW，同比大增65.

​过去几十年来，半导体制造由中国大陆、韩国和中国台湾三个地区主导，2021年这三个地区共计占全球市场的 87%。而今，随着地缘政治的转变，各国或地区都在寻求降低对单一供应链的依赖，努力发展自己的半导体产业，确保技术的独立性和安全性，全球半导体格局正在被重塑。地缘政治的变化不仅可能影响供应链、原材料的获

​什么是蒸发镀膜真空蒸发镀膜是指在真空条件下，通过蒸发源加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面来获得薄膜的一种技术。被蒸发的物质被称为蒸镀材料。由于真空蒸发法或真空蒸镀法主要物理过程是通过加热蒸发材料而产生，所以又称热蒸发法或者热蒸镀，所配套的设备称之为热蒸发真空镀膜机。蒸发镀膜是PVD真空镀膜方式的

​在薄膜材料制备技术中，原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）是两种被广泛应用的核心技术。尽管二者均通过气相前驱体的化学反应实现薄膜生长，但在工艺机制、控制精度、反应条件及应用场景等方面存在本质差异。深入解析这些差异，可为材料制备过程中的技术选型提供关键依据。工艺机制：反应路径的本质差异ALD

​在材料表面改性和薄膜制备技术的广阔领域中，磁控溅射技术以其独特的优势和广泛的应用，成为了现代材料科学与工程领域的关键技术之一。从微电子器件中精密的金属电极薄膜，到光学领域中提升光学元件性能的增透膜、低辐射玻璃，再到机械加工中增强材料表面性能的功能膜层，磁控溅射技术无处不在，深刻地影响着我们的生活和科

​在真空技术领域，单位换算和计算公式是进行相关工作的基础。准确掌握这些知识，对于真空系统的设计、运行、检测等环节都至关重要。下面将详细介绍常用的真空单位换算及17个真空常用计算公式。常用的真空单位换算真空度的度量单位有多种，不同国家和地区在使用过程中可能会有所差异，以下是一些常用真空单位及其换算关系：

​本文详细探讨了磁控溅射过程中靶中毒这一关键问题。深入分析了靶中毒的现象、机理及对溅射过程和薄膜质量的严重影响。通过对反应气体、溅射功率、靶材与基底材料等多种因素的综合研究，揭示了靶中毒的成因。靶面金属化合物的形成由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反应气体粒

​蒸镀技术作为一种重要的薄膜制备方法，在电子、光学、太阳能等众多领域得到了广泛应用。选择合适的蒸镀材料和蒸发装置是制备高质量薄膜的关键，直接影响到薄膜的性能、生产成本以及生产效率。本文深入探讨常见蒸镀材料及蒸发装置选择。介绍了金属、化合物、有机材料等各类蒸镀材料特性，分析电阻、电子束蒸发装置特点，阐述

​北京泰科诺科技23年真空行业经验，独立研发的热丝法制备金刚石膜方法填补了国内行业空白，产品获得多项国家专利和认证。广泛适用于各大高校、科研院所和生产企业实现教学、研发和中试之目的。目前已初步实现产业化生产。一、制备金刚石厚膜1、连续沉积40天，膜层厚度2.1mm。2、可以把厚膜经过激光切割成金刚石刀

​前言：杂化钙钛矿晶体主要是将无机盐和有机盐充分混合及反应后，然后将得到的前驱体溶液在介孔材料中的孔隙内组装而形成的。一般来说，制备杂化钙钛矿晶体薄膜的方法有：①一步溶液旋涂法；②双源气相沉积法；③两步溶液浸渍法。①一步溶液旋涂法是将等摩尔比的CH3NH3I和PbI2的γ-丁内酯或DMF溶液，然后将其

​随着能源、环境问题日渐突出，太阳能发电作为新能源产业的中坚力量获得了大量的关注。其中，太阳能电池的发展对于整个光伏行业来说至关重要。目前晶硅太阳电池技术成熟，是市场上的主流，但是存在成本过高、效率面临瓶颈等问题；而薄膜太阳电池整体效率并不理想，难以实现大规模量产。在此情况下，研发原料资源丰富、无毒且

​科学发展日新月异的今天，大量具有各种不同功能的薄膜得到了广泛的应用，薄膜作为一种重要的材料在材料领域占据着越来越重要的地位。利用粒子所具有的光、电、磁方面的特性,通过复合使新材料具有基体所不具备的特殊功能的薄膜，我们称之为“功能薄膜”。而其作为一种高新技术产品，并不是高不可攀的，它应用前景广阔，在水

​有人曾这样形容磁控溅射技术——就像往平静的湖水里投入了石子溅起水花。磁控溅射真空镀膜技术是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition）的一种，其原理是：用带电粒子加速轰击靶材表面，发生表面原子碰撞并产生能量和动量的转移，使靶材原子从表面逸出并沉积在衬底材料上的过程。磁控溅射技术

​涂层刀具是在强度和韧性较好的硬质合金或高速钢(HSS)基体表面上，利用气相沉积方法涂覆一薄层耐磨性好的难熔金属或非金属化合物（也可涂覆在陶瓷、金刚石和立方氮化硼等超硬材料刀片上）而制备的。涂层作为一个化学屏障和热屏障，减少了刀具与工件间的扩散和化学反应，从而减少了基体的损。涂层刀具具有表面硬度高、耐

​什么是物理气相沉积（PVD）？物理气相沉积（Physical vapor deposition，PVD）是一种在真空条件下采用物理方法，将固体或液体材料表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能薄膜的技术。物理气相沉积技术不仅可以沉积金

​半导体的未来正在不断演变，当前的趋势预示着更高水平的创新和竞争。在2023年之前，不断增加的需求、导致了半导体的短缺和生产下滑。随之而来的是，全球半导体联盟发布的2022年半导体行业信心指数降至56/100，较上一年的历史最高水平下降了18个百分点。首先，从半导体设备角度看，中国市场已成为全球最大的

​毫无疑问，当今的光伏市场是晶硅的天下。但晶硅光伏的效率却快要达到天花板了。过去在60多年的时间里，已经有三代太阳能电池发展出来。第一代是以硅材料为基本材料的太阳能电池，是目前最成熟的主流商业电池；第二代是薄膜太阳能电池，以铜铟镓硒(CIGS)、碲化镉(CdTe)电池为代表，相比第一代具有厚度薄、光电

​PVD纳米涂层介绍：物理气相沉积（physical vapor deposition，PVD），是当前国际上广泛应用的先进表面处理技术，属于镀膜技术的一种。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物沉积在基底上。它