磁性材料表面形貌分析用飞纳台式场发射扫描电镜 Phenom Pharos G2

产品概述

Phenom Pharos G2 是一款台式场发射扫描电镜，可用于磁性材料的表面形貌及微观结构分析，帮助研究人员观察磁粉颗粒、晶粒形貌、表面缺陷及微纳尺度结构特征。

对于磁性材料研发和质量检测，材料的颗粒尺寸、表面形貌、团聚状态及局部缺陷等微观特征会对材料性能产生影响。Phenom Pharos G2 可提供高分辨率扫描电镜成像，为磁性材料的微观形貌观察和材料研发提供分析手段。

设备采用肖特基热场发射电子枪，电子光学放大倍数**可达 2,000,000×，分辨率优于 1.5 nm，适用于对精细结构、微纳尺度特征及高分辨形貌有较高要求的研发与检测场景。

Phenom Pharos G2 支持低、中、高三种真空模式，标配二次电子探测器和背散射电子探测器，可根据应用需求选配能谱探测器，实现样品形貌观察与元素成分分析。

产品特点

肖特基热场发射电子枪，满足高分辨成像需求

设备采用肖特基热场发射电子枪，具有较高亮度，可满足材料微观结构及精细表面形貌的高分辨扫描电镜观察需求。

高放大倍率与高分辨率

电子光学放大倍数**可达 2,000,000×，分辨率优于 1.5 nm，适用于纳米材料、磁性材料及其他功能材料的微纳结构观察。

加速电压连续可调

加速电压支持 1 kV–20 kV 连续可调，可根据不同样品及成像需求选择合适的测试条件。

三种真空模式，适应不同材料样品

支持低真空、中真空和高真空三种工作模式，可根据样品特性和测试需求选择相应的真空条件。

多种探测器配置

设备标配二次电子探测器和背散射电子探测器，可根据实际应用需求选配能谱探测器，用于获取样品形貌及元素成分信息。

台式设计，适合实验室研发与检测

采用台式化设计，可应用于科研院所、高校实验室、企业研发中心及材料检测机构，满足日常研发、材料分析和质量检测需求。

应用领域

Phenom Pharos G2 可应用于以下领域：

• 磁性材料表面形貌及微观结构分析

• 磁粉颗粒形貌与粒径观察

• 磁性材料表面缺陷及团聚状态分析

• 纳米材料与功能材料研发

• 半导体材料微观形貌观察

• 碳材料、催化剂及陶瓷材料分析

• 锂电材料及光伏材料研发

• 材料检测及企业质量控制

技术参数

常见问题

Phenom Pharos G2 适合哪些应用？

Phenom Pharos G2 适用于对高分辨微观形貌有较高要求的应用场景，可用于磁性材料、纳米材料、半导体、碳材料、催化剂、陶瓷、锂电材料及光伏材料等样品的微观结构和表面形貌观察。

是否可以用于磁性材料颗粒分析？

可以。设备可用于观察磁粉颗粒的形貌、表面状态、团聚情况及其他微观结构特征，为磁性材料研发和质量检测提供形貌分析信息。

是否可以进行元素分析？

设备可根据应用需求选配能谱探测器，用于颗粒、异物或局部区域的元素成分分析，实现形貌与成分信息的综合分析。

产品价格是多少？

产品价格根据设备配置、探测器选项及具体应用需求确定。用户可通过平台询价或留言提交样品类型和测试需求，获取相应的产品配置建议。

产品服务

如需了解 Phenom Pharos G2 在磁性材料表面形貌分析中的应用方案、产品配置或相关资料，可通过平台询价或留言提交样品类型及测试需求，获取进一步的产品选型建议。