企业研发质控用飞纳台式扫描电镜 Phenom XL G3

产品简介

Phenom XL G3 是飞纳推出的大仓室台式扫描电镜，可应用于企业研发、产品质量控制及失效分析等场景，为材料微观形貌观察和问题样品分析提供扫描电镜检测支持。

在企业产品研发和生产过程中，当材料出现表面缺陷、结构异常或产品性能变化时，往往需要从微观层面对样品进行进一步观察。Phenom XL G3 可用于材料表面、断面及局部异常区域的形貌分析，帮助研发和质控人员获取样品的微观结构信息，为问题排查、工艺改进和质量评估提供参考。

设备平均成像时间约 40 秒，**可分析 100 x 100 mm 样品，并可同时容纳 36 个样品，适合企业实验室开展日常样品测试及多样品观察。采用 CeB6 灯丝，电子光学放大倍数可达 200,000 X，分辨率优于 8 nm，可满足常规材料研发和质量检测中的微观形貌分析需求。

Phenom XL G3 支持低、中、高三种真空模式，标配背散射探测器，并可根据实际应用需求选配二次电子探测器和能谱探测器。通过不同配置，可满足材料形貌观察、缺陷区域分析及局部元素检测等需求。

产品特点

1. 服务企业研发与质量控制需求

可用于研发阶段的材料结构观察，也可应用于生产过程中异常样品、缺陷样品及失效样品的微观分析，为企业研发和质控工作提供检测支持。

2. 大仓室设计，满足不同尺寸样品测试

**支持 100 x 100 mm 样品分析，可同时容纳 36 个样品，方便企业实验室根据不同项目安排日常样品测试。

3. 快速获取微观形貌信息

平均成像时间约 40 秒，可用于研发测试和质量控制过程中的常规样品观察，提高日常检测工作的效率。

4. 兼顾放大倍率与常规材料分析需求

电子光学放大倍数可达 200,000 X，分辨率优于 8 nm，可用于材料表面形貌、颗粒结构及局部缺陷区域观察。

5. CeB6 灯丝，适合实验室长期使用

采用 CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时，可满足企业研发实验室和质量检测部门的日常分析需求。

6. 三种真空模式，提升样品分析灵活性

支持低、中、高三种真空模式，可根据不同材料特性和检测目标选择相应的测试条件，适应多类材料样品的观察需求。

7. 可根据分析任务扩展探测能力

设备标配背散射探测器，可选配二次电子探测器和能谱探测器，在形貌观察基础上进一步满足不同项目对样品信息获取的需求。

8. 台式设计，便于企业内部实验室部署

采用台式结构，可部署于企业研发中心、质量控制实验室及材料检测部门，为研发与生产提供就近的微观分析支持。

应用领域

Phenom XL G3 可应用于以下企业研发与质量控制场景：

• 企业研发样品微观形貌分析

• 产品质量控制与来料检测

• 材料表面及断面观察

• 产品缺陷与异常区域分析

• 失效样品微观检测

• 工艺优化与材料研发

• 多样品日常测试

• 企业内部材料检测实验室

技术参数

常见问题

1. Phenom XL G3 适合企业研发部门使用吗？

适合。设备可用于企业研发过程中的材料形貌观察、样品结构分析和问题样品检测，也可服务于日常质量控制工作。

2. 除了研发样品，还能用于生产质量控制吗？

可以。对于生产过程中的异常样品、材料缺陷或需要进行微观观察的样品，Phenom XL G3 可提供形貌分析支持。具体检测方案需结合样品类型和实际检测目标确定。

3. 是否支持元素分析？

设备可根据需求选配能谱探测器，用于颗粒、异物或局部区域的元素分析，为材料研发和问题样品分析提供更多参考信息。

4. 产品价格如何确定？

设备价格根据具体配置、探测器选项、应用需求及服务方案确定。用户可通过平台询价或留言提交样品类型和测试需求，获取相应的设备配置建议。

产品服务

如需了解 Phenom XL G3 在企业研发、材料质量控制及失效分析中的应用方案、设备配置或相关测试资料，可通过平台询价或留言提交样品类型与分析需求，获取进一步产品信息。