一、产品特色

该款设备是全自动Plasma增强PECVD系统，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下进行实验，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，有效的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀。

二、设备组成

1）加热系统2）Plasma系统3）炉管转动系统4）触屏操作系统5）进出气法兰组件6）炉管 7）真空系统。

（1）加热系统：

该加热系统的加热腔体采用氧化铝纤维制品，其极低的热导率和比热容，保证了炉膛的快速升温和低蓄热，该系统设置有超温、欠温、断偶报警保护功能，大大降低了对操作人员经验的要求。温区为单温区，温区长440mm，异形石英管规格采用Φ60*Φ100*1200。

（2）Plasma系统：

本系统借助于辉光放电产生等离子体，辉光放电等离子体中，电子密度高，通过反应气态放电，有效利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式。

（3）炉管转动系统：

炉管转动系统可以让炉管360°匀速转动，转速在0.25-25r/min连续可调。

（4）触屏操作系统：该系统可以让设备在自动模式下高度自动化运行，所有参数程序设定好后自动运行：可实现按照设定程序连续工作，可设置多工作段不同参数，并可进行某工作段循环工作及某程序循环工作。

（5） 进出气法兰组件：设备法兰左端为进气端，一侧配有球阀控制的进气口，另一侧预留KF25接口，上部配有压力表，左侧端面为KF50接口。右端为出气端，一侧由球阀控制的出气口，另一侧为KF25抽口，上部配有真空计，右侧端面为KF50接口。

（6）炉管：炉管为异形石英管，通过左右两端磁流体密封法兰实现真空下的回转，

（7）真空系统：由一个电容真空计和一台DRV16机械泵组成，抽口端由KF25手动挡板阀控制，并配有粉尘过滤器。

三、技术参数