简介： 大家好，上次跟大家聊了半导体制造里关键的核心耗材CMP抛光高纯氧化铝。今天咱们来聊一下抛光行业的核心材料——纳米氧化铝。 先讲它核心特性：三氧化二铝硬度HV1800-2200，仅次于金刚石，化学稳定性强，粒径可控5-50nm，颗粒超细，抛光不易留划痕、不伤工件基材。 它四大主流应用： 1、光学元件：镜头、镜片精细抛光，提升透光率； 2、半导体硅片：高精度低损伤抛光，芯片制造必备； 3、金属抛光：不锈钢、铝合金轻松抛出镜面效果； 4、陶瓷抛光：适配蓝宝石、氧化锆陶瓷，高效去料无深痕。 三大独有优势： 1、磨削效率高，加工损伤小； 2、硅烷改性后分散性好，不会团聚抛花工件； 3、可制成溶胶抛光液，实现超平整超低粗糙度表面。 总的来说，纳米氧化铝是精密抛光革命性磨料。随着精密制造发展，光学、半导体、陶瓷加工都会越来越离不开它。有抛光划痕、光洁度不达标的问题，欢迎评论区一起交流！我是王月，下期再见！